[发明专利]一种具有径向微沟槽的抛光垫

权利要求书

1.一种具有径向微沟槽的抛光垫，所述抛光垫包括抛光层，所述抛光层具有一旋转中心，以及与所述旋转中心同心的抛光轨迹区和环向沟槽，其特征在于，所述抛光轨迹区含有径向微沟槽，所述径向微沟槽的取向与抛光时抛光介质的流型函数一致：

其中，r为抛光层上任意点离抛光垫圆心的距离，r₀为抛光头圆心和抛光垫圆心之间的距离，θ为抛光层上任意点和抛光垫圆心的连线与直线L之间的夹角，直线L为抛光开始前抛光机抛光盘中心点和抛光头中心点的连线所在的直线。

2.如权利要求1所述的抛光垫，其特征在于，所述抛光垫不含有从抛光层内部经抛光轨迹区到抛光层周边的径向大沟槽。

3.如权利要求2所述的抛光垫，其特征在于，所述抛光轨迹区为以抛光垫半径R为基准，从圆心开始(1/4～3/4)R的环形区域；优选地，在所述抛光轨迹区内环向沟槽和径向微沟槽相交。

4.如权利要求1～3任一项所述的抛光垫，其特征在于，所述环向沟槽为以抛光垫圆心为中心的同心圆环形沟槽。

5.如权利要求1～3任一项所述的抛光垫，其特征在于，所述环向沟槽为以抛光垫圆心为中心的呈环向的螺旋沟槽。

6.如权利要求1～3任一项所述的抛光垫，其特征在于，所述环向沟槽为由微圆组成的以抛光垫圆心为中心环向沟槽。

7.如权利要求1～3任一项所述的抛光垫，其特征在于，所述环向沟槽为由圆弧组成的类圆环状的沟槽。

8.如权利要求1～7任一项所述的抛光垫，其特征在于，所述的径向微沟槽为弯曲的径向微沟槽；优选地，所述的径向微沟槽为以流型函数为基础设计的径向微沟槽。

9.如权利要求1～8任一项所述的抛光垫，其特征在于，所述径向微沟槽的宽度不大于环向沟槽的十二分之一；优选地，所述径向微沟槽的平均宽度小于30微米；更优选地，所述径向微沟槽的深度是环向沟槽深度的1/4至1/2。

10.如权利要求8所述的抛光垫，其特征在于，所述抛光轨迹区内相邻两个环向沟槽之间含有径向微沟槽的面积占相邻两个环向沟槽之间所夹区域面积的30％～80％。