[发明专利]一种显示屏位置偏差测量方法及系统有效
申请号: | 202211059868.X | 申请日: | 2022-08-31 |
公开(公告)号: | CN115144164B | 公开(公告)日: | 2023-02-28 |
发明(设计)人: | 王雷;李渊;邓忠光;欧昌东;郑增强 | 申请(专利权)人: | 武汉精立电子技术有限公司;武汉精测电子集团股份有限公司 |
主分类号: | G01M11/02 | 分类号: | G01M11/02;G01B11/00;G01B11/26 |
代理公司: | 武汉东喻专利代理事务所(普通合伙) 42224 | 代理人: | 方可 |
地址: | 430205 湖北省武*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 显示屏 位置 偏差 测量方法 系统 | ||
1.一种显示屏位置偏差测量方法,其通过光学测量设备测量待测产品与待测产品显示屏的位置偏差,其特征在于,包括如下步骤:
对待测产品与光学测量设备进行对位;
获取待测产品在光学测量设备成像区域内成像的视野边界,获取待测产品显示屏在第一方向上的角度偏差;
获取待测产品在光学测量设备成像区域内的成像点位信息,分别对成像点位进行对焦,获取成像点位在光学测量设备成像区域内第二方向和第三方向上的像面角度偏差;其中,所述待测产品成像在光学测量设备成像区域内第二方向上的像面角度偏差获取方式为:获取待测产品成像的其中两个点位信息,分别对两点位进行对焦,获取两点位对焦的后焦距变化量,获取两点位在第二方向上的成像高度差;根据两点位的后焦距变化量和第二方向上的成像高度差获取待测产品成像在光学测量设备成像区域内第二方向上的像面角度偏差;
根据成像点位在光学测量设备成像区域内的第二方向和第三方向上的像面角度偏差获得待测产品显示屏在第二方向和第三方向上的角度偏差;其中,第一方向、第二方向和第三方向两两互相垂直。
2.根据权利要求1所述的显示屏位置偏差测量方法,其特征在于,待测产品在第一方向上的角度偏差获取方式为:
获取待测产品显示屏在光学测量设备成像区域内成像的视野边界,获取光学测量设备成像区域视野边界,对比待测产品显示屏在光学测量设备成像区域内视野边界与光学测量设备成像区域视野边界的角度偏差,即为待测产品显示屏在第一方向上的角度偏差。
3.根据权利要求1所述的显示屏位置偏差测量方法,其特征在于,待测产品显示屏在第二方向上的角度偏差获取方式为:
获取两点位的中心点位,对中心点位在光学测量设备上的成像进行对焦,获取对焦后对焦镜头分别与待测产品上中心点位和光学测量设备上成像中心点位的距离;
根据待测产品成像在光学测量设备成像区域内第二方向上的像面角度偏差、对焦镜头与待测产品上中心点位距离、对焦镜头与光学测量设备上成像中心点位的距离计算得到待测产品显示屏在第二方向上的角度偏差。
4.根据权利要求1或2所述的显示屏位置偏差测量方法,其特征在于,待测产品成像在光学测量设备成像区域内第三方向上的像面角度偏差获取方式为:
获取待测产品成像的其中两个点位信息,分别对两点位进行对焦,获取两点位对焦的后焦距变化量;
获取两点位在第三方向上的成像高度差;
根据两点位的后焦距变化量和第三方向上的成像高度差获取待测产品成像在光学测量设备成像区域内第三方向上的像面角度偏差。
5.根据权利要求4所述的显示屏位置偏差测量方法,其特征在于,待测产品显示屏在第三方向上的角度偏差获取方式为:
获取两点位的中心点位,对中心点位在光学测量设备上的成像进行对焦,获取对焦后对焦镜头分别与待测产品上中心点位和光学测量设备上成像中心点位的距离;
根据待测产品成像在光学测量设备成像区域内第三方向上的像面角度偏差、对焦镜头与待测产品上中心点位距离、对焦镜头与光学测量设备上成像中心点位的距离计算得到待测产品显示屏在第三方向上的角度偏差。
6.根据权利要求5所述的显示屏位置偏差测量方法,其特征在于,还包括获取待测产品与待测产品显示屏在第一方向上的位移偏差,其包括:
根据对焦后对焦镜头分别与待测产品上中心点位和光学测量设备上成像中心点位的距离获取待测产品显示屏与光学测量设备在第一方向上的位移偏差;
根据待测产品与光学测量设备在第一方向上的位移偏差获取待测产品与待测产品显示屏在第一方向上的位移偏差。
7.根据权利要求1所述的显示屏位置偏差测量方法,其特征在于,还包括获取待测产品与待测产品显示屏在第二方向和第三方向上的位移偏差,其包括:
获取待测产品与光学测量设备在第二方向和第三方向上的位移偏差;
根据待测产品与光学测量设备在第二方向和第三方向上的位移偏差获取待测产品与待测产品显示屏在第二方向和第三方向上的位移偏差。
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