[发明专利]一种陶瓷相与高熔点相协同增强高熵合金涂层及其制备方法

权利要求书

1.一种陶瓷相与高熔点相协同增强高熵合金涂层，其特征在于：所述涂层涂覆于基体上，所述涂层的总厚度为0.3-1.5mm，所述涂层由固溶相、陶瓷相和高熔点相构成，所述固溶相组成元素为Fe、Al、Co、Cr、Ni，所述陶瓷相的组成元素为Ti、C，所述高熔点相由X组成，所述X组成元素为Mo、Nb、Ta、V或W中的一种或多种；所述涂层由Al、Co、Cr、Ni、Ti、C和X混粉后，经激光熔覆制备而成；

所述固溶相组成元素Fe由基体稀释而来，所述固溶相组成元素Al、Co、Cr、Ni的摩尔比为1:1:1:1，所述陶瓷相组成元素Ti、C分别与X的摩尔比为(1-4):(1-4)，陶瓷相和高熔点相物质量之和占除Fe之外整个涂层组成元素物质量之和的20-50%。

2.根据权利要求1所述的陶瓷相与高熔点相协同增强高熵合金涂层，其特征在于， 所述基体为碳钢。

3.一种如权利要求1-2任一项所述陶瓷相与高熔点相协同增强高熵合金涂层的制备方法，包括如下步骤：

S1：使用砂纸对基体表面进行打磨，将打磨后的基体烘干备用；

S2：按照摩尔比例对Al、Co、Cr、Ni、Ti、C、X粉末称粉，然后均匀混合，使用粘结剂将合金粉末均匀涂覆在基体表面，预制层厚度为0.3-1.5mm，涂覆完成后，进行晾干并烘干处理；

所述X粉末为Mo、Nb、Ta、V或W粉末中的至少一种；

S3：采用激光体作为热源，进行激光熔覆制备，得到陶瓷相与高熔点相协同增强高熵合金耐磨涂层。

4.根据权利要要求3所述的陶瓷相与高熔点相协同增强高熵合金涂层的制备方法，其特征在于，激光熔覆的工艺参数为：扫描速度为15-24mm/s、功率为1000-2000W、保护气流量为10L/min、离焦量为35mm和搭接率为30%。

5.根据权利要要求3所述的陶瓷相与高熔点相协同增强高熵合金涂层的制备方法，其特征在于，步骤S1中所述烘干条件为烘干箱中预热200℃、烘干2小时，步骤S2中所述烘干处理条件为烘干箱中预热70℃、烘干2小时；步骤S2中所述均匀混合的方式为V型混粉机进行2小时的均匀混合。

6.根据权利要要求3所述的陶瓷相与高熔点相协同增强高熵合金涂层的制备方法，其特征在于，步骤S2中所述的粘结剂为水玻璃。

7.根据权利要要3-6任一项所述的陶瓷相与高熔点相协同增强高熵合金涂层的制备方法，其特征在于，所述Al、Co、Cr、Ni的摩尔比为1:1:1:1，所述Ti、C分别与X的摩尔比为(1-4):(1-4)，所述Ti、C和X物质量之和占除Fe之外整个涂层组成元素物质量之和的20-50%，粉末纯度大于99.9%，粒径均为100-200目。