[发明专利]键合焊点制作方法在审
申请号: | 202211110932.2 | 申请日: | 2022-09-13 |
公开(公告)号: | CN115394738A | 公开(公告)日: | 2022-11-25 |
发明(设计)人: | 潘章旭;郭婵;王建太;陈志涛;李育智;邹胜晗;龚政 | 申请(专利权)人: | 广东省科学院半导体研究所 |
主分类号: | H01L23/488 | 分类号: | H01L23/488;H01L21/60 |
代理公司: | 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463 | 代理人: | 张欣欣 |
地址: | 510651 广*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 键合焊点 制作方法 | ||
1.一种键合焊点制作方法,其特征在于,所述方法包括:
在基板表面制作绝缘层,并在所述绝缘层开设绝缘通孔;其中,所述绝缘通孔露出电极层;
在所述绝缘层表面涂布光刻胶,并在所述光刻胶开设光刻胶通孔,所述光刻胶通孔位于所述绝缘通孔的上方,且所述绝缘通孔的直径小于所述光刻胶通孔的直径;
在所述光刻胶表面依次沉积金属层和焊料层,以在所述绝缘通孔内形成具有凹槽的金属柱,所述焊料层位于所述凹槽的表面;
对所述焊料层进行回流,以形成具有凹槽结构的键合焊点。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,在所述光刻胶表面依次沉积金属层和焊料层的步骤之后,所述方法还包括:
去除所述光刻胶。
3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述金属层的厚度大于2微米。
4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述焊料层的厚度小于1微米。
5.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述绝缘通孔是通过光刻、刻蚀或腐蚀制作的。
6.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述凹槽的凹槽壁呈倾斜状态。
7.一种键合焊点,其特征在于,所述键合焊点由权利要求1-6任一项所述键合焊点制作方法制得。
8.一种待焊接器件,其特征在于,所述待焊接器件包括:
基板;所述基板包括电极层;
位于所述基板一侧的绝缘层;其中,所述绝缘层设置有与所述电极层相对的绝缘通孔;
位于所述绝缘通孔的键合焊点,其中,所述键合焊点远离所述基板的一侧。
9.根据权利要求8所述的待焊接器件,其特征在于,所述键合焊点包括焊料层,所述焊料层的形状为球形。
10.一种倒装焊方法,其特征在于,所述方法包括:
在键合基板上制作焊点;
将所述键合基板的焊点和权利要求8中所述的待焊接器件的键合焊点对准并进行倒转焊,以使所述焊点与所述键合焊点键合在一起。
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