[发明专利]一种使用间接光控镀制窄带滤光片的方法在审

专利信息
申请号: 202211140690.1 申请日: 2022-09-20
公开(公告)号: CN115437054A 公开(公告)日: 2022-12-06
发明(设计)人: 严德枚 申请(专利权)人: 严德枚
主分类号: G02B5/28 分类号: G02B5/28
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 350000 *** 国省代码: 福建;35
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摘要:
搜索关键词: 一种 使用 间接 光控 窄带 滤光 方法
【权利要求书】:

1.一种使用间接光控镀制窄带滤光片的方法,其特征在于,包括以下步骤:

S1:选取的镀膜的膜系的膜系结构包括若干个法布里-帕罗腔及连接层:法布里-帕罗腔的结构为:aHbL(HL)^n-12AHL(HL)^n、{(HL)^n2BHL(HL)^n}^N(HL)^n2AL(HL)^n-1cHdL;

S2:通过Z=|B-C|/|B-A|×100%的计算法来控制S1中镀膜的膜系的膜系结构,然后将n、N、A和B的值根据半波宽以及截止深度来进行调整;

S3:对a、b、c和d的值进行调整,来达到对带通波段的透过率进行调整,直到带通波段的透过率达到极限。

2.根据权利要求1所述的一种使用间接光控镀制窄带滤光片的方法,其特征在于,所述S1中,H为高折射率层的四分之一中心波长的光学厚度,L为低折射率层的四分之一中心波长的光学厚度;2H为两个四分之一中心波长的光学厚度,A和B为均多个二分之一光学厚度的高折射率层,n,N为腔的数量。

3.根据权利要求2所述的一种使用间接光控镀制窄带滤光片的方法,其特征在于,所述高折射率层的材料为Ta2O5、Nb2O5、Ti3O5和H4中的至少之一,所述高折射率层的折射率在400-1100nm的范围为1.8-2.5。

4.根据权利要求2所述的一种使用间接光控镀制窄带滤光片的方法,其特征在于,所述低折射率层的材料为SiO2、Al2O3和MgF2中的至少之一,所述低折射率层的折射率在400-1100nm的范围为1.38-1.61。

5.根据权利要求1所述的一种使用间接光控镀制窄带滤光片的方法,其特征在于,所述S2中,A、B是极值,C是终止值。

6.根据权利要求1所述的一种使用间接光控镀制窄带滤光片的方法,其特征在于,所述S3中,a、b、c和d的值均控制在0.3-2.5之间。

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