[发明专利]一种陶瓷镀层沉积装置

说明书

本发明公开了一种陶瓷镀层沉积装置，涉及陶瓷镀层沉积设备技术领域，包括真空罐总成和真空泵组件，所述真空罐总成和所述真空泵组件通过管道连接，所述真空罐总成的侧壁上安装有电极，所述真空罐总成内部的一端位置处转动连接有支撑单元，所述支撑单元上设置有夹持单元。本发明结构合理，通过设置夹持单元、支撑单元和驱动单元，实现对多个密封支架进行夹持，并在真空罐内转动，提高了密封支架陶瓷镀层沉淀时的均匀性，避免了存在陶瓷镀层缺少，而影响密封支架的耐磨能力，并且方便密封支架从真空罐内取出，无需操作人员手直接接触密封支架，避免密封支架上的高温对操作人员手造成烫伤。

技术领域

本发明涉及陶瓷镀层沉积设备技术领域，特别涉及一种陶瓷镀层沉积装置。

背景技术

高能脉冲电沉积陶瓷涂层的装置是通过电子枪产生一束能量密度极高的脉冲电子束轰击材料表面，使材料表面发生瞬间熔融和快速凝固，获得表面细晶组织或非平衡亚稳相，实现材料表面性能改变。同时也可以通过和真空镀膜技术相结合，实现材料表面合金化。金属表面陶瓷涂层的作用有：耐高温、耐磨损、防腐蚀、绝缘等，陶瓷镀层在水电行业得到广泛的应用，例如水轮机密封支架表面镀有陶瓷镀层，提高密封支架表面的耐磨损能力，改善密封效果、降低维护费用，减少停机维修时间。

现有的对密封支架表面陶瓷镀层沉积处理采用的是将密封支架放置在真空罐内，然后通过电极沉积法将陶瓷镀层镀在密封支架表面上，然而现有的陶瓷镀层沉淀设备不能均匀的将陶瓷镀层沉积在密封支架的表面，使得密封支架表面存在缺少镀层，降低了密封支架的耐磨损能力，并且密封支架不便放置在真空罐内，密封支架陶瓷镀层沉积后不便从真空罐内取出，因此，本申请提供了一种陶瓷镀层沉积装置来满足需求。

发明内容

本申请的目的在于提供一种陶瓷镀层沉积装置，通过设置夹持单元、支撑单元和驱动单元，实现对多个密封支架进行夹持，并在真空罐内转动，提高了密封支架陶瓷镀层沉淀时的均匀性，避免了存在陶瓷镀层缺少，而影响密封支架的耐磨能力，并且方便密封支架从真空罐内取出，无需操作人员手直接接触密封支架，避免密封支架上的高温对操作人员手造成烫伤。

为实现上述目的，本申请提供如下技术方案：一种陶瓷镀层沉积装置，包括真空罐总成和真空泵组件，所述真空罐总成和所述真空泵组件通过管道连接，所述真空罐总成的侧壁上安装有电极，所述真空罐总成内部的一端位置处转动连接有支撑单元，所述支撑单元上设置有夹持单元，所述夹持单元通过第一限位组件与所述支撑单元固定连接，所述真空罐总成的一侧固定连接有驱动组件，所述驱动组件用于驱动所述夹持单元和所述支撑单元在所述真空罐总成内转动；所述驱动组件与所述夹持单元通过第二限位组件固定连接，所述夹持单元用于夹持密封支架，并通过所述电极对所述密封支架表面进行陶瓷镀层沉积。

优选的，所述支撑单元包括设置于所述真空罐总成内壁周圈方向上的多个滚轮，多个所述滚轮的一侧均通过转动轴转动连接有转动板，多个所述转动板的一侧均固定连接有支撑杆，多个所述支撑杆的一端固定连接有同一个固定框，多个所述支撑杆之间均固定连接有连接杆，所述连接杆靠近所述固定框的一侧呈凹弧形结构，所述真空罐总成的一端位置处的内壁上开设有转动槽，所述滚轮的侧壁与所述转动槽的内壁相贴合，所述第一限位组件与所述固定框相连接，所述夹持单元与所述固定框相连接。