[发明专利]柔性高耐侯高透明低辐射红外隐身异质薄膜

权利要求书

1.一种柔性高耐侯高透明低辐射红外隐身异质薄膜，其特征在于，其异质膜系结构为以下三类之一：①D/M/Z/N，②D/M/S/Z/N，③D/S/M/Z/N；

其中，N膜层的材料选自TiAlN、ZrN、SiAlN；

Z膜层的材料选自ZnTe、ZnSe；

M膜层为M₁膜层、M₂膜层堆叠构成的复合膜层，M₁膜层、M₂膜层的材料选自Ag、Au、Cu、CrNi，且M₁膜层与M₂膜层的材料不同；

S膜层的材料选自ATO、FTO、ZAO；

D膜层的材料选自ZnO、MgO、Al₂O₃；

所述N膜层、Z膜层、S膜层、D膜层的厚度均为20～60 nm，M膜层的厚度为10～20 nm；同时，Z膜层的材料的折射率大于D膜层的材料的折射率。

2.根据权利要求1所述的柔性高耐侯高透明低辐射红外隐身异质薄膜，其特征在于：异质膜系结构为D/M/Z/N，其中，N膜层的材料为TiAlN，厚度为20 nm；Z膜层的材料为ZnTe，厚度为20 nm；M膜层为M₁膜层、M₂膜层堆叠构成的复合膜层，M₁膜层的材料为Ag，厚度为10 nm，M₂膜层的材料为Cu，厚度为5 nm；D膜层的材料为ZnO，厚度为40 nm。

3.根据权利要求1所述的柔性高耐侯高透明低辐射红外隐身异质薄膜，其特征在于：异质膜系结构为D/M/S/Z/N其中，N膜层的材料为SiAlN，厚度为25 nm；Z膜层的材料为ZnSe，厚度为30 nm；S膜层的材料为AZO，厚度为20 nm；M膜层为M₁膜层、M₂膜层堆叠构成的复合膜层，M₁膜层的材料为Ag，厚度为10 nm，M₂膜层的材料为CrNi合金，厚度为3 nm；D膜层的材料为Al₂O₃，厚度为20 nm。

4.根据权利要求1所述的柔性高耐侯高透明低辐射红外隐身异质薄膜，其特征在于：异质膜系结构为D/S/M/Z/N，其中，N膜层的材料为ZrN，厚度为20 nm；Z膜层的材料为ZnTe，厚度为60 nm；M膜层为M₁膜层、M₂膜层堆叠构成的复合膜层，M₁膜层的材料为Au，厚度为10 nm，M₂膜层的材料为Cu，厚度为3 nm；S膜层的材料为FTO，厚度为60 nm；D膜层的材料为MgO，厚度为60 nm。

5.权利要求1～4中任一项所述的柔性高耐侯高透明低辐射红外隐身异质薄膜在作为或制备可见光与红外兼容隐身材料中的应用。

6.根据权利要求5所述的应用，其特征在于：具体应用时，在透明基底表面通过磁控溅射、真空蒸发镀由下至上依次镀制各膜层，而从制备出柔性高耐侯高透明低辐射红外隐身异质薄膜。

7.根据权利要求6所述的应用，其特征在于：所述透明基底的材料选自聚对苯二甲酸乙二酯、聚醚醚酮、聚苯并咪唑、聚苯硫醚。

8.根据权利要求6所述的应用，其特征在于：所述透明基底的厚度为0.1～0.3 mm。