[发明专利]一种均匀衍射闪耀光栅的制备方法及闪耀光栅

权利要求书

1.一种均匀衍射闪耀光栅的制备方法，其特征在于，包括：

基于压印工艺在基底(1)表面设置第一厚度的残留层(2)，以在所述残留层(2)表面形成闪耀光栅结构(3)；

根据所述第一厚度确定表面镀层(4)第二厚度的取值范围；

在所述闪耀光栅结构(3)表面设置所述第二厚度的所述表面镀层(4)，以在预设视场角范围内均匀化闪耀光栅的衍射效率；所述第二厚度位于所述取值范围内。

2.根据权利要求1所述的均匀衍射闪耀光栅的制备方法，其特征在于，在所述闪耀光栅结构(3)表面设置第二厚度的所述表面镀层(4)之后，还包括：

在所述表面镀层(4)表面设置金属薄膜(5)。

3.根据权利要求2所述的均匀衍射闪耀光栅的制备方法，其特征在于，所述表面镀层(4)包括沿厚度方向堆叠的多个表面子镀层；

多个所述表面子镀层的厚度之和等于所述第二厚度。

4.根据权利要求3所述的均匀衍射闪耀光栅的制备方法，其特征在于，沿从所述闪耀光栅结构(3)指向背向所述基底(1)一侧方向，多个所述表面子镀层的折射率依次增加。

5.根据权利要求2所述的均匀衍射闪耀光栅的制备方法，其特征在于，所述金属薄膜(5)为金膜、银膜、铝膜中任意一种或多种沿水平方向拼接。

6.根据权利要求1所述的均匀衍射闪耀光栅的制备方法，其特征在于，所述残留层(2)厚度的取值范围为30nm至150nm。

7.根据权利要求6所述的均匀衍射闪耀光栅的制备方法，其特征在于，所述表面镀层(4)为TiO₂膜层、Ta₂O₅膜层、ZrO₂膜层中任意一种或多种沿厚度方向堆叠。

8.根据权利要求7所述的均匀衍射闪耀光栅的制备方法，其特征在于，所述表面镀层(4)为TiO₂膜层；

所述根据所述第一厚度确定表面镀层(4)第二厚度的取值范围包括：

当所述表面镀层(4)的第二厚度小于等于所述第一厚度时，所述第二厚度与所述第一厚度的差值小于等于20nm；

当所述表面镀层(4)的第二厚度大于所述第一厚度时，所述第二厚度与所述第一厚度的差值小于等于80nm。

9.根据权利要求1所述的均匀衍射闪耀光栅的制备方法，其特征在于，所述基于压印工艺在基底(1)表面设置第一厚度的残留层(2)，以在所述残留层(2)表面形成闪耀光栅结构(3)包括：

基于压印工艺在基底(1)表面设置残留层(2)，以在所述残留层(2)表面形成闪耀光栅结构(3)；

测量所述残留层(2)的厚度，记为第一厚度。

10.一种闪耀光栅，其特征在于，包括：

基底(1)；

位于所述基底(1)表面的残留层(2)；所述残留层(2)的厚度为第一厚度；

位于所述残留层(2)表面的闪耀光栅结构(3)；

位于所述闪耀光栅结构(3)表面的表面镀层(4)，所述表面镀层(4)的厚度为第二厚度，所述第二厚度的取值范围为根据所述第一厚度确定的范围，使预设视场角范围内所述闪耀光栅的衍射效率均匀化。

11.根据权利要求10所述的闪耀光栅，其特征在于，还包括：

位于所述表面镀层(4)背向所述基底(1)一侧表面的金属薄膜(5)。

12.根据权利要求11所述的闪耀光栅，其特征在于，所述表面镀层(4)包括沿厚度方向堆叠的多个表面子镀层，所述表面子镀层的厚度之和等于所述第二厚度。

13.根据权利要求12所述的闪耀光栅，其特征在于，沿从所述闪耀光栅结构(3)指向背向所述基底(1)一侧方向，多个所述表面子镀层的折射率依次增加。