[发明专利]一种灰尘固定方法及装置

说明书

本发明公开了一种灰尘固定方法及装置，涉及半导体技术领域。该灰尘固定方法包括：采用激光透过光罩的光学膜照射灰尘，以将灰尘固定在光罩的遮光层上。本发明提供的灰尘固定方法能够方便快捷的完成对光罩内部灰尘的有效处理，不影响光罩的正常使用。

技术领域

本发明涉及半导体技术领域，具体而言，涉及一种灰尘固定方法及装置。

背景技术

光罩又称掩膜版，包括具有透光性的基板以及位于基板上的遮光层，遮光层限定出供光线穿过而成型图案的透光区。为了防止污染及延长光罩使用寿命，通常会在光罩的有效区域贴一层光学膜来保证透光区不被污染。

光罩制作完成后，光罩内部的遮光层表面可能会落下灰尘，为了避免灰尘移动至透光区造成遮挡，需要将光学膜拆开，重新对光罩进行清洁，操作过程繁琐复杂。

发明内容

本发明的目的在于提供一种灰尘固定方法，其能够在不拆开光学膜的情况下将光罩内的灰尘固定在遮光层上，防止灰尘移动至透光区，操作过程方便快捷。

本发明的另一目的在于提供一种灰尘固定装置，其能够在不拆开光学膜的情况下将光罩内的灰尘固定在遮光层上，防止灰尘移动至透光区，操作过程方便快捷。

本发明提供一种技术方案：

一种灰尘固定方法，应用于光罩，所述灰尘固定方法包括：

采用激光透过所述光罩的光学膜照射灰尘，以将所述灰尘固定在所述光罩的遮光层上。

进一步地，所述采用激光透过所述光罩的光学膜照射灰尘，以将所述灰尘固定在所述光罩的遮光层上的步骤包括：

以预设频率的激光间隔第一预设时长点发照射所述灰尘预设次数，单次照射所述灰尘第二预设时长。

进一步地，所述预设频率处于500nJ～1500nJ的范围内。

进一步地，所述第一预设时长处于1s～2s的范围内。

进一步地，所述第二预设时长处于0.5s～1s的范围内。

进一步地，所述预设次数处于5次至10次之间。

进一步地，所述采用激光透过所述光罩的光学膜照射灰尘，以将所述灰尘固定在所述光罩的遮光层上的步骤包括：

采用激光以垂直于所述灰尘所在的所述遮光层表面的角度照射所述灰尘，以使所述灰尘嵌入所述遮光层内。

进一步地，所述采用激光透过所述光罩的光学膜照射灰尘，以将所述灰尘固定在所述光罩的遮光层上的步骤还包括：

获取所述灰尘的粒径；

在所述灰尘的粒径处于预设范围内时，采用激光透过所述光罩的光学膜照射所述灰尘，以将所述灰尘固定在所述光罩的遮光层上。

进一步地，所述预设范围为1μm～10μm。

本发明的实施例还提供一种灰尘固定装置，应用于光罩，所述灰尘固定装置包括：

激光照射模块，用于发射激光透过所述光罩的光学膜照射灰尘，以将所述灰尘固定在所述光罩的遮光层上。

相比现有技术，本发明提供的灰尘固定方法，通过发射激光透过光学膜照射灰尘，从而将灰尘压入遮光层，实现灰尘在遮光层上的固定，避免灰尘移动至透光区，实现了在不拆开光学膜的情况下对灰尘的有效处理。因此，本发明提供的灰尘固定方法的有益效果包括：能够方便快捷的完成对光罩内部灰尘的有效处理，不影响光罩的正常使用。

附图说明