[发明专利]一种光路限定元件及使用该元件的检测方法、装置在审
申请号: | 202211416593.0 | 申请日: | 2022-11-13 |
公开(公告)号: | CN115793353A | 公开(公告)日: | 2023-03-14 |
发明(设计)人: | 闫东;李昶;洪瑞;王美;徐飞;卞海峰;肖文龙;李泽通;薛冬冬;顾晓奕;韩杰 | 申请(专利权)人: | 无锡奥特维科技股份有限公司 |
主分类号: | G03B15/06 | 分类号: | G03B15/06;H01L21/66 |
代理公司: | 无锡永乐唯勤专利代理事务所(普通合伙) 32369 | 代理人: | 章陆一 |
地址: | 214000 *** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 限定 元件 使用 检测 方法 装置 | ||
本申请公开了一种光路限定元件,包括安装座、第一反光面和第二反光面,安装座具有倾斜设置的安装面和狭长孔,狭长孔自安装面穿透安装座设置,并将安装面分割成第一安装面和第二安装面,第一安装面和第二安装面分别用于安装第一反光面和第二反光面,第一反光面和第二反光面用于反射光,狭长孔用于透过光。本申请可以有效解决现有方棱镜影响成像效果的问题。
技术领域
本申请属于硅片分选领域,具体地说,涉及一种光路限定元件及使用该元件的检测方法、装置。
背景技术
在将硅片制成电池片之前,需要对硅片进行一系列缺陷检测,其中有一项检测,需要对硅片侧边进行检测。
现有的检测方式,多采用方棱镜对光源进行反射或透射,经方棱镜透射后的光线,会有部分被方棱镜底部再次反射上去,导致拍摄背景过亮,影响成像效果,进而给侧边检测带来干扰。
发明内容
针对当前侧边检测采用方棱镜影响成像效果的问题,本申请提出了一种光路限定元件及使用该元件的检测方法、装置。
第一方面,本申请提出了一种光路限定元件,包括安装座、第一反光面和第二反光面,安装座具有倾斜设置的安装面和狭长孔,狭长孔自安装面穿透安装座设置,并将安装面分割成第一安装面和第二安装面,第一安装面和第二安装面分别用于安装第一反光面和第二反光面,第一反光面和第二反光面用于反射光,狭长孔用于透过光。
本申请的光路限定元件不仅可以对光进行反射,还具有使光通过的狭长孔,相比传统的方棱镜,若想使光穿过光路限定元件,只需穿过狭长孔即可,而不需穿过方棱镜的透反膜,就能实现光在光路限定元件上的反射及透射的问题,因此能够完全避免方棱镜自身底部反射光的现象,可以有效解决现有方棱镜影响成像效果的问题。
可选的,狭长孔的宽度为0.8mm~2mm。
将狭长孔的宽度选择在0.8mm-2mm,在利用本申请的光路限定元件对硅片侧边进行检测时,能够更好地平衡光源、相机和待检测硅片之间配合关系,进而提升对待检测硅片侧边的成像效果。
可选的,倾斜设置的安装面相对于水平面的夹角为α,35°≤α≤55°。
将安装面相对与水平面的夹角设置在35°~55°,一方面有利于反光面的安装,一方面这个角度更有利于将光从反光面上反射到待检测硅片侧边上。
可选的,第一反光面和第二反光面之间的夹角为β,150°≤β≤180°。
将第一反光面和第二反光面之间的夹角设置在150°~180°之间,使第一反光面和第二反光面之间呈角度设置,可以使第一反光面反射到待检测硅片侧边的光、第二反光面反射到待检测硅片侧边的光相交于同一区域,该区域近似为对应狭长孔的待检测硅片侧边位置,使得硅片能够反射并通过狭长孔的光更强,从而使相机拍取成像效果更好的照片,从而提高侧边的检测精度。
可选的,第一安装面远离狭长孔的一端高于第一安装面靠近狭长孔的一端,第二安装面远离狭长孔的一端高于第二安装面靠近狭长孔的一端,第一安装面与第二安装面之间的夹角与β的角度一致。
将第一安装面和第二安装面之间的夹角设计成于β的角度一致,更有利于将第一反光面和第二反光面固定在安装面上,安装方面。
可选的,第一反光面和第二反光面分别角度可调地安装在第一安装面与第二安装面上。
将第一反光面角度可调地安装在第一安装面上,将第二反光面角度可调地安装在第二安装面上,可以根据不同的检测环境,适应性地调节第一反光面和第二反光面之间地夹角,提高光路限定元件的适用性。
可选的,第一反光面和第二反光面为反光镜或者反光膜。
第一反光面和第二反光面既可以选择反光镜,也可以选择反光膜,对光进行反射,固定方便,成本可控。
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