[发明专利]石英玻璃随机微透镜阵列匀光元件及其制备方法在审
申请号: | 202211488202.6 | 申请日: | 2022-11-25 |
公开(公告)号: | CN115826108A | 公开(公告)日: | 2023-03-21 |
发明(设计)人: | 刘华;张晗;宋慧颖;李峰 | 申请(专利权)人: | 东北师范大学 |
主分类号: | G02B3/00 | 分类号: | G02B3/00;G02B27/00;G03F7/20 |
代理公司: | 长春市吉利专利事务所(普通合伙) 22206 | 代理人: | 李晓莉 |
地址: | 130024 吉*** | 国省代码: | 吉林;22 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 石英玻璃 随机 透镜 阵列 元件 及其 制备 方法 | ||
1.石英玻璃随机微透镜阵列匀光元件的制备方法,其特征是:包括以下步骤,且以下步骤顺次进行,
步骤一、随机微透镜阵列设计
微透镜阵列采用长方形或六边形阵列,掩模版采用随机位置刻蚀,刻蚀微单元孔径D,刻蚀深度h,空气折射率n1,玻璃折射率n2,微单元散射角θ;切割后阵列的方形微单元边长Dx和Dy,其散射角分别ax和ay之间的数学关系为,
采用随机位置刻蚀,掩模孔的大小确定为r=2μm,刻蚀时间t、刻蚀孔径D、刻蚀深度h、刻蚀面曲率半径R之间的数学关系为,
D=43.48*(t(min)-9.97)7/50
h=57.69-45.99*t(min)6/125
R=2.332t(min)+11.65
步骤二、掩模孔位置设计
采用matlab软件建立数学模型生成规则分布半径为2μm间距为30-40μm的圆孔,赋予一定的随机度,使圆孔的位置随机变化,得到随机分布的掩模孔位置坐标;
步骤三、超白玻璃模板制备
在清洗后的超白玻璃上镀一层铬膜,在铬膜上旋涂正性光刻胶,按照所述步骤二设计的孔位置,采用激光直写技术进行光刻,并在碱性溶液中显影,使用质量比为5:2:2的去离子水,硝酸,氢氟酸混合液,对光刻后的超白玻璃进行化学刻蚀,获得超白玻璃匀光元件模板;
步骤四、模板复制和固化
将PDMS聚二甲基硅氧烷的预聚体和固化剂以质量比为10:1混合,搅拌脱泡后倾倒在所述步骤三获得的超白玻璃匀光元件模板上,在90℃的条件下,加入50min进行PDMS固化;
配置液体玻璃,将液体玻璃倾倒在固化的PDMS上,静置10s后采用紫外灯固化,获得固化后样品备用;
步骤五、液体玻璃热处理
将所述步骤四获得的固化后样品置于高温炉中处理,去除有机物,进行脱脂处理,获得脱脂后的样品;将脱脂后的样品继续放入高温炉中,在真空环境中进行高温烧结处理,获得石英玻璃随机微透镜匀光元件。
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