[发明专利]一种用于随基片升降的加热装置

说明书

本发明公开了一种用于随基片升降的加热装置，包括安装板、固定壳体、基板、反射盘、第一空心轴、第二空心轴、加热盘支撑管组件、加热管、加热盘、加热管固定块、伸缩波纹管；固定壳体的下端外壁设置法兰盘，固定壳体设置在所述安装板上，固定壳体的法兰盘通过螺钉与安装板连接固定，固定壳体的顶部中间位置设置第一安装通孔，第一安装通孔下方正对的安装板上设置第二安装通孔；第一空心轴由同轴设置的上空心轴、下空心轴两段轴组成，上空心轴位于下空心轴上方，上空心轴外壁设置外螺纹一，下空心轴外壁设置外螺纹二，外螺纹一与外螺纹二为旋向相反的螺纹。本发明能准确对基片进行加热，温度可控性好，能够保持加热盘和样品高度保持一致性。

技术领域

本发明涉及材料加工技术领域，具体是一种用于随基片升降的加热装置。

背景技术

磁控溅射是溅射技术常采用的一种形式，圆形靶磁控溅射镀膜设备中需要对样品的温度进行精确的控制，当靶基距调整后，常规的加热器不能准确的对基片进行加热，温度很难保持一致性，专利号为CN201920781324.1的实用新型专利公开了一种磁控溅射纳米疏水膜制备装置，该装置包括真空室、蒸发室、真空获得系统、真空计、充气系统、磁控溅射系统、转架和加热丝，所述磁控溅射系统包括偏压电源和磁控溅射阴极，所述偏压电源分别与转架和磁控溅射阴极电连接，所述磁控溅射阴极和真空计安装在真空室上，所述转架和加热丝安装在真空室内，所述蒸发室位于真空室下方，并与真空室通过管道相连通，所述蒸发室内设有电阻蒸发器，所述转架位于磁控溅射阴极与蒸发室之间，所述充气系统和真空获得系统分别与真空室相连接。该专利同时具备了磁控溅射镀膜和蒸发镀膜这两种工艺，避免了镀膜过程中基片和镀料需要频繁装卸的问题，提高了镀膜效率和膜层的牢固性，采用加热丝安装在真空室内加热蒸发，然而，随着基片高度的调节，不能够保持加热丝和样品高度保持一致性，也不能保证基片温度能够很好的控制在所需的要求范围内，所以亟待解决。

发明内容

本发明的主要目的在于提供一种用于随基片升降的加热装置，以解决磁控溅射镀膜技术中随着基片高度的调节，不能够保持加热丝和样品高度保持一致性，也不能保证基片温度能够很好的控制在所需的要求范围内的问题。

本发明的技术方案：一种用于随基片升降的加热装置，包括：安装板、固定壳体、基板、反射盘、第一空心轴、第二空心轴、加热盘支撑管组件、加热管、加热盘、加热管固定块、伸缩波纹管；其中，

固定壳体，所述固定壳体为下端敞口的圆柱形筒体结构，所述固定壳体的下端外壁设置法兰盘，所述固定壳体设置在所述安装板上，固定壳体的法兰盘通过螺钉与所述安装板连接固定，所述固定壳体的顶部中间位置设置第一安装通孔，所述第一安装通孔下方正对的所述安装板上设置第二安装通孔；

第一空心轴，所述第一空心轴由同轴设置的上空心轴、下空心轴两段轴组成，所述上空心轴位于所述下空心轴上方，所述上空心轴外壁设置外螺纹一，下空心轴外壁设置外螺纹二，所述外螺纹一与所述外螺纹二为旋向相反的螺纹；

第二空心轴，所述第二空心轴同轴设置在所述固定壳体上方，所述第二空心轴的下端向下延伸并部分从所述第一安装通孔伸入所述固定壳体内腔，所述第一安装通孔内同轴设置法兰形轴套一，所述轴套一内套在所述第一安装通孔内并外套在所述第二空心轴上，所述轴套一上端通过法兰凸台下端面支撑在所述固定壳体顶部，所述第二空心轴的上端中心孔内壁设置与所述上空心轴的外螺纹一相匹配的内螺纹一，所述第二空心轴的下端中心孔内壁设置与所述下空心轴的外螺纹二相匹配的内螺纹二，所述上空心轴下端部分插入第二空心轴的上端螺纹孔内螺纹连接，所述下空心轴上端部分插入第二空心轴的下端螺纹孔内螺纹连接；

基板，所述基板同轴水平设置在所述上空心轴上端，所述上空心轴上端设置法兰盘，所述基板与所述上空心轴的法兰盘固定连接；