[发明专利]基片处理装置、基片处理方法和存储介质

权利要求书

1.一种基片处理装置，其特征在于，包括：

基片保持部，其能够以与基片的背面局部地重叠的方式保持所述基片；

光照射部，其能够对所述基片的背面照射光，来将所述背面的有机物除去；

在所述基片的背面侧与该背面隔开间隔地设置的遮光部件，其能够防止所述光被供给到所述基片的正面；和

保持位置改变机构，其能够改变所述基片的背面的由所述基片保持部保持的位置，来对所述基片的整个背面照射光。

2.如权利要求1所述的基片处理装置，其特征在于：

设置有包围所述基片的侧周的包围部，所述遮光部件设置在所述包围部。

3.如权利要求2所述的基片处理装置，其特征在于：

所述遮光部件从所述包围部的内周面向被所述基片保持部保持的所述基片的背面侧延伸，构成前端沿着所述基片的周端形成的板状体。

4.如权利要求1所述的基片处理装置，其特征在于：

设置有第一吹扫气体释放部，其能够从被所述基片保持部保持的所述基片与所述遮光部件之间的间隙的上方向该间隙释放吹扫气体。

5.如权利要求4所述的基片处理装置，其特征在于：

设置有包围所述基片的侧周的包围部，所述第一吹扫气体释放部为所述包围部，在所述包围部设置有沿着所述基片的周端形成的、从所述基片的外周侧向内周侧向所述间隙释放所述吹扫气体的第一吹扫气体释放口。

6.如权利要求1所述的基片处理装置，其特征在于：

所述保持位置改变机构包括：

用于载置所述基片的载置台；

相对升降机构，其能够使所述基片保持部相对于所述载置台相对地升降，以在所述载置台与所述基片保持部之间交接所述基片；和

相对旋转机构，其能够使所述载置台相对于所述基片保持部相对地旋转，来改变所述基片的背面的所述基片保持部的位置。

7.如权利要求6所述的基片处理装置，其特征在于：

设置有能够使所述基片保持部和所述遮光部件在横向上相对于所述光照射部相对移动的相对横向移动机构，

所述基片保持部能够在保持所述基片的背面的第1位置的状态下，相对于进行光照射的所述光照射部进行所述横向上的相对移动，

接着，所述基片保持部能够在借助于所述载置台保持所述基片的背面的与所述第1位置不同的第2位置的状态下，相对于进行光照射的所述光照射部进行所述横向上的相对移动。

8.如权利要求7所述的基片处理装置，其特征在于：

设置有包围所述基片的侧周的包围部，所述基片保持部和所述遮光部件设置在所述包围部，

所述相对横向移动机构能够使所述包围部在横向上移动，

所述相对旋转机构能够使所述载置台旋转，

设置有用于收纳所述包围部、所述光照射部、所述保持位置改变机构和所述相对横向移动机构的壳体，

能够在所述载置台与所述壳体的外部的基片输送机构之间交接所述基片。

9.如权利要求8所述的基片处理装置，其特征在于：

设置有能够在所述光照射部与所述基片的背面之间向侧方释放吹扫气体的第二吹扫气体释放部。

10.如权利要求9所述的基片处理装置，其特征在于：

在所述壳体内前后移动的所述包围部的移动路径的下方，所述光照射部和用于对所述壳体内进行排气而向上方开口的第1排气口分别在左右方向上延伸地设置。

11.如权利要求10所述的基片处理装置，其特征在于：

所述第二吹扫气体释放部、所述光照射部和所述第1排气口从前方向后方依次排列设置，

吹扫气体从所述第二吹扫气体释放部向所述第1排气口流动。