[发明专利]一种防蓝光抗菌抗静电光学级GPU自修复膜有效
申请号: | 202211615451.7 | 申请日: | 2022-12-15 |
公开(公告)号: | CN115850949B | 公开(公告)日: | 2023-09-01 |
发明(设计)人: | 赵江;李钦;李鹏;李东娥 | 申请(专利权)人: | 苏州易昇光学材料股份有限公司 |
主分类号: | C08L75/04 | 分类号: | C08L75/04;C08L75/08;C08J5/18;C08G18/75;C08G18/66;C08G18/48;C08G18/32;C08G18/28 |
代理公司: | 常州市权航专利代理有限公司 32280 | 代理人: | 王淑敏 |
地址: | 215000 江苏省苏州*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 防蓝光 抗菌 抗静电 光学 gpu 修复 | ||
1.一种防蓝光抗菌抗静电光学级GPU自修复膜,其特征在于,以重量份数计,包括以下原料成分:
TPU树脂 70-90份;
抗菌自修复凝胶 10-30份;
抗静电剂 1-5份;
所述抗菌自修复凝胶的制备方法包括以下步骤:
(1)将1mol 4-氯苯胺加入到250-400g质量浓度为37wt%的盐酸水溶液中,冰浴下搅拌10min后,加入1.2-1.5mol亚硝酸钠,室温下搅拌反应1h后;再加入1mol萘酚,在0-5℃下搅拌反应15-30min后,反应结束;在反应体系中加入500mL乙酸乙酯,之后经强力搅拌、分液,取油相,减压蒸馏后,80℃真空干燥4h,得到中间产物I;
(2)将6.6-7mol中间产物I、1mol三聚氰胺、7mol氢氧化钠、0.1mol碘化铜、0.1mol有机配体溶于1000mL N,N-二甲基甲酰胺中,于90-100℃下搅拌反应8-12h,反应结束后,将反应体系的温度降至室温,加入300mL去离子水,搅拌生成沉淀,对反应产物进行过滤,取不溶物,然后对不溶物用乙醇洗涤,并于80℃下真空干燥4h,得到中间产物II;
(3)N2保护下,将1.0mol中间产物II、6.6-7mol异佛尔酮二异氰酸酯、二月桂酸二丁基锡溶于1000mL乙酸乙酯中,所述二月桂酸二丁基锡用量为中间产物II、异佛尔酮二异氰酸酯总质量的0.5%,于80-120℃下搅拌反应12-16h,得到含中间产物III的溶液;
(4)将6.6-7mol聚丙二醇溶于800mL乙酸乙酯中,得到预反应液,然后将步骤(3)得到的含中间产物III的溶液置于恒压滴液漏斗中,采取边滴加边搅拌的方式加入到预反应液中,滴加完成后,于70-80℃下搅拌反应至反应体系中异氰酸酯的吸收峰在FTIR谱图中消失,反应结束,之后对反应结束的溶液浓缩,浓缩物中加入1000mL二氯甲烷,然后对其进行过滤,取滤液,最后对收集得到的滤液减压蒸馏,并于80℃下真空干燥4h,得到中间产物IV;
(5)N2保护下,将中间产物1.0mol IV、6.6-7mol异佛尔酮二异氰酸酯、二月桂酸二丁基锡溶于1000mL乙酸乙酯中,65-75℃下搅拌反应2h,得到含中间产物V的溶液,所述二月桂酸二丁基锡用量为中间产物IV、异佛尔酮二异氰酸酯总质量的0.5%;
(6)在步骤(5)得到的含中间产物V的溶液中加入6.6-7mol单羟基化合物,所述单羟基化合物由巯基乙醇与1,3-二-叔丁氧羰基-2-(2-羟基乙基)胍按照摩尔比2:1组成,搅拌均匀后,于70-80℃下搅拌反应至反应体系中异氰酸酯的吸收峰在FTIR谱图中消失,反应结束,之后对反应后的溶液进行浓缩,浓缩物中加入500mL去离子水,对其进行过滤后,取不溶物,然后对收集得到的不溶物进行减压蒸馏,并于80℃下真空干燥4h,得到中间产物VI;
(7)将适量的中间产物VI溶于1000mL乙酸乙酯中,加入700-720ml质量浓度为30wt%过氧化氢水溶液、0.01mol碘化钠,搅拌生成黄色不溶物,继续搅拌至不再生成后,加入1000mL饱和硫代硫酸钠水溶液,搅拌至黄色消失,对反应体系进行过滤,取不溶物用1000mL去离子水洗涤3次,并于110℃下真空干燥12h,得到目标产物VII;
所述有机配体的结构式如下:
。
2.根据权利要求1所述的一种防蓝光抗菌抗静电光学级GPU自修复膜,其特征在于:所述聚丙二醇为聚丙二醇400、聚丙二醇600、聚丙二醇800或聚丙二醇1000。
3.根据权利要求1-2任一项所述的一种防蓝光抗菌抗静电光学级GPU自修复膜,其特征在于:其制备方法包含以下步骤:
(1)将TPU树脂、抗菌自修复凝胶、抗静电剂分别置于烘箱中,各自于60℃下4h后,取出备用;
(2)按照配方量,在混料机中加入TPU树脂、抗菌自修复凝胶、抗静电剂,于60℃、50-100rpm的转速下搅拌混合0.5-1h,获得混合原料;
(3)将步骤(2)得到的混合原料置于单螺杆挤出机中,于45-50rpm的转速下高温熔融共挤,并通过流延膜模头出料,流延成型获得初级胶膜;
(4)将步骤(3)得到的初级胶膜牵引至拉伸辊上对其进行双向拉伸、冷却辊定型固化、分切、收卷后,即得到防蓝光抗菌抗静电光学级GPU自修复膜。
4.根据权利要求3所述的一种防蓝光抗菌抗静电光学级GPU自修复膜,其特征在于,其制备方法中步骤(3)中挤出机五段分区温度分别为190℃、205℃、220℃、230℃、240℃。
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