[发明专利]版图的光栅化计算方法、全芯片的仿真方法在审

专利信息
申请号: 202211700014.5 申请日: 2022-12-28
公开(公告)号: CN116187256A 公开(公告)日: 2023-05-30
发明(设计)人: 吴家俊;谢理;包涵;陈红 申请(专利权)人: 深圳国微福芯技术有限公司
主分类号: G06F30/392 分类号: G06F30/392;G06F30/398
代理公司: 深圳市康弘知识产权代理有限公司 44247 代理人: 尹彦
地址: 518000 广东省深圳市福田区福保街道福*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 版图 光栅 计算方法 芯片 仿真 方法
【权利要求书】:

1.一种版图的光栅化计算方法,其特征在于,包括:

选定部分像素点并计算其光栅化结果;

将版图上的曼哈顿图形分割为多个矩形;

判断矩形的顶点是否为选定的部分像素点;若是,则根据矩形的四个顶点的坐标,从已经计算的光栅化结果中找到分别以矩形的四个顶点为原点延伸形成的四个中间矩形的光栅化结果;

基于四个中间矩形的光栅化结果进行相应的叠加,得到矩形的光栅化结果。

2.如权利要求1所述的版图的光栅化计算方法,其特征在于,选定部分像素点并计算其光栅化结果包括如下步骤:

设置像素单元大小;

将对应的区域划分为以像素单元大小为正方形网格边长的网格阵列;

计算网格阵列上每一个点的光栅化结果。

3.如权利要求2所述的版图的光栅化计算方法,其特征在于,将网格阵列上的每一个点的坐标及其对应的光栅化结果建立查找表。

4.如权利要求2所述的版图的光栅化计算方法,其特征在于,所述网格阵列上的每一个点的光栅化结果采用公式

计算得到,所述M(x,y)为掩膜函数,所述K(x,y)为模糊化计算中所需的卷积核。

5.如权利要求2所述的版图的光栅化计算方法,其特征在于,若矩形的顶点不是选定的部分像素点,则采用线性差值通过与该矩形的顶点最临近的网格的坐标点获该矩形的顶点的光栅化结果。

6.如权利要求5所述的版图的光栅化计算方法,其特征在于,采用公式

计算矩形的顶点的光栅化结果。

7.如权利要求1所述的版图的光栅化计算方法,其特征在于,采用内凹点拆分法将版图上的曼哈顿图形分割为多个矩形。

8.如权利要求1所述的版图的光栅化计算方法,其特征在于,所述四个中间矩形分别以矩形的左下角顶点向右上延伸形成;且四个中间矩形叠加时,将以矩形的左上角顶点、右下角顶点为左下角顶点的中间矩形的光栅化结果生成负值,再与以矩形的左下角顶点、右上角顶点为左下角顶点的中间矩形的光栅化结果进行叠加,得到矩形的光栅化结果。

9.一种全芯片的仿真方法,其特征在于,采用了如权利要求1至8任意一项所述的版图的光栅化计算方法对芯片的版图进行光栅化计算。

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