[实用新型]一种用于硅外延工艺的气流控制装置

说明书

本实用新型涉及硅外延技术领域，且公开了一种用于硅外延工艺的气流控制装置，包括顶针，所述顶针的外部设置有调节机构，所述调节机构包括针筒、固定筒和弹簧，所述固定筒固定连接在针筒的表面，所述固定筒的表面开设有有喷射孔，所述固定筒的两侧设置有圆形通孔，所述顶针的底部为倾斜设置，所述顶针与固定筒滑动连接，所述弹簧固定连接在顶针和针筒之间，所述弹簧与针筒滑动连接，所述调节机构还包括千分尺微分头和连接杆，所述连接杆的底部与顶针连接，所述千分尺微分头与连接杆的顶部连接。一种用于硅外延工艺的气流控制装置，通过设置调节机构的作用，整个装置达到方便对气流的流量进行调节的作用。

技术领域

本实用新型涉及硅外延技术领域，具体为一种用于硅外延工艺的气流控制装置。

背景技术

硅外延，在适合的晶体底层上的单个晶体半导体薄膜的生长就是外延生长，所有的“外延生长”大同小异，底层通常是由和沉积的半导体同种物质的晶体组成，但也不总是这样，高质量的单晶硅薄膜已经可以在合成蓝宝石或尖晶石wafer上生长了，因为这些物质都有像硅一样可以让晶核生长的晶体结构，合成蓝宝石或尖晶石的成本超过同尺寸的硅wafer太多了，所以大多数外延生长沉积还是在硅底层上生长硅薄膜，在硅外延工艺中需要对气流的大小进行控制，但是在现有技术中，不方便对气流的流量进行调节。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供了一种用于硅外延工艺的气流控制装置，解决了不方便对气流的流量进行调节的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种用于硅外延工艺的气流控制装置，包括顶针，所述顶针的外部设置有调节机构，所述调节机构包括针筒、固定筒和弹簧，所述固定筒固定连接在针筒的表面，所述固定筒的表面开设有有喷射孔，所述固定筒的两侧设置有圆形通孔，所述顶针的底部为倾斜设置，所述顶针与固定筒滑动连接，所述弹簧固定连接在顶针和针筒之间，所述弹簧与针筒滑动连接。

优选的，所述调节机构还包括千分尺微分头和连接杆，所述连接杆的底部与顶针连接，所述千分尺微分头与连接杆的顶部连接，使得连接杆带动顶针向下移动。

优选的，所述顶针的外部还设置有密封机构，所述密封机构包括金属波纹管、螺帽和金属垫片，所述金属波纹管设置在针筒的内部，所述螺帽设置在针筒的外部，所述金属垫片设置在螺帽和针筒之间，金属垫片与波纹管通过螺帽压紧直接实现金属密封，整个装置达到较高的密封性。

优选的，所述密封机构还包括密封圈，所述密封圈固定连接固定筒的外部，使得固定筒与针筒的连接处可以达到较高的密封性。

优选的，所述螺帽的表面固定连接有固定块，所述固定块的表面开设有滑槽，所述千分尺微分头与滑槽滑动连接，使得千分尺微分头可以在固定块的表面开设的滑槽中滑动。

优选的，所述固定块的表面开设有螺纹孔，所述螺纹孔的内部螺纹连接有螺栓，所述螺栓与千分尺微分头抵接，设置的螺栓可以固定千分尺微分头。

优选的，所述固定块的表面开设有卡槽，所述卡槽的表面卡接有微分头保护罩，使得可以对千分尺微分头进行防护。

本实用新型提供了一种用于硅外延工艺的气流控制装置。一种用于硅外延工艺的气流控制装置具备以下有益效果：

(1)本实用新型中：一种用于硅外延工艺的气流控制装置，通过设置调节机构的作用，整个装置达到方便对气流的流量进行调节的作用。

(2)本实用新型中：一种用于硅外延工艺的气流控制装置，通过设置密封机构的作用，金属垫片与波纹管通过螺帽压紧直接实现金属密封，整个装置达到较高的密封性。

附图说明

图1为本实用新型的主视结构示意图；

图2为本实用新型的剖视结构示意图；

图3为本实用新型的内部结构示意图；