[实用新型]一种聚合物反应真空调节装置

权利要求书

1.一种聚合物反应真空调节装置，包括反应釜体（1），以及设置于所述反应釜体（1）上下两端的上封盖（2）和下封盖（3），其特征在于：所述上封盖（2）上安装有搅拌电机（4），所述搅拌电机（4）的输出端连接有搅拌轴（5），所述搅拌轴（5）竖直延伸至反应釜体（1）内，所述搅拌轴（5）上可拆卸的安装有搅拌桨（6），所述搅拌桨（6）的底部安装有辅助搅拌件（7），所述上封盖（2）上安装有真空泵（8），所述真空泵（8）的抽气端连接有真空管（9），所述真空管（9）远离真空泵（8）的一端延伸至反应釜体（1）的内部，所述真空管（9）位于反应釜体（1）外的部分安装有精泄压阀（10），所述反应釜体（1）的一侧安装有真空压力表（11），所述真空压力表（11）的一端与反应釜体（1）相连接，另一端与真空泵（8）相连接，用于检测反应釜体（1）内部压力，所述反应釜体（1）的底部设置有用于支撑反应釜体（1）的支撑脚（12）。

2.根据权利要求1所述的一种聚合物反应真空调节装置，其特征在于：所述搅拌桨（6）远离搅拌轴（5）的一端向下倾斜，所述辅助搅拌件（7）与搅拌桨（6）互相垂直。

3.根据权利要求2所述的一种聚合物反应真空调节装置，其特征在于：所述搅拌桨（6）靠近搅拌轴（5）的一端设置有连接件（13），所述搅拌轴（5）上开设与之相配合的插槽，所述连接件（13）插接于插槽内，所述搅拌轴（5）上还设置有可将连接件（13）固定在插槽内的固定组件（14）。

4.根据权利要求3所述的一种聚合物反应真空调节装置，其特征在于：所述固定组件（14）包括设置于搅拌轴（5）内，可上下滑动的滑杆（141），所述连接件（13）上开设有与滑杆（141）相配合的滑槽，所述滑杆（141）的一端贯穿滑槽并延伸至连接件（13）的下方，所述搅拌轴（5）内部位于连接件（13）下方的位置设置有电磁铁（142），所述滑杆（141）延伸至连接件（13）下方的一端设置有与电磁铁（142）相配合的吸附块（143）。

5.根据权利要求4所述的一种聚合物反应真空调节装置，其特征在于：所述搅拌轴（5）的表面滑动连接有滑环（15），所述滑环（15）与滑杆（141）相连接，以通过滑动所述滑环（15）带动滑杆（141）上下移动。

6.根据权利要求1所述的一种聚合物反应真空调节装置，其特征在于：所述上封盖（2）和下封盖（3）上分别设置有与反应釜体（1）内部相连通的进料端（16）和出料端（17），在所述进料端（16）和出料端（17）上分别设置有可控制二者通断的阀门（18）。