[实用新型]一种膜系结构

权利要求书

1.一种膜系结构，其特征在于，所述膜系结构为：

Sub|((HL)^a (2H)^b (LH)^c (2L)^d)^e (HL)^a (2H)^b (LH)^c fL|Air；

其中，Sub为基板，Air为出射介质空气，H为1/4中心波长光学厚度的高折射率材料，L为1/4中心波长光学厚度的低折射率材料，a、b、c、d、e、f均为正整数；

其中，(HL)^a表示依次沉积H膜层和L膜层并重复a次；(2H)^b表示依次沉积H膜层和H膜层并重复b次；(LH)^c表示依次沉积L膜层和H膜层并重复c次；(2L)^d表示依次沉积L膜层和L膜层并重复d次；((HL)^a(2H)^b(LH)^c(2L)^d)^e表示膜堆(HL)^a(2H)^b(LH)^c(2L)^d重复e次；fL表示L膜层重复f次。

2.根据权利要求1所述的膜系结构，其特征在于，1≤a≤5，1≤c≤5。

3.根据权利要求1所述的膜系结构，其特征在于，

1≤b≤2，1≤d≤2，1≤e≤2，1≤f≤2。

4.根据权利要求1所述的膜系结构，其特征在于，所述高折射率材料为Ta₂O₅、TiO₂、HfO₂、ZrO₂、硫化物和硒化物中的任一种。

5.根据权利要求1所述的膜系结构，其特征在于，所述低折射率材料为SiO₂、Al₂O₃和MgF₂中的任一种。

6.根据权利要求1所述的膜系结构，其特征在于，所述基板为石英基板，所述高折射率材料为Ta₂O₅，所述低折射率材料为SiO₂。

7.根据权利要求6所述的膜系结构，其特征在于，a＝5，b＝2，c＝5，d＝3，e＝1，f＝1。