[实用新型]一种沉淀法二氧化硅干法研磨装置

权利要求书

1.一种沉淀法二氧化硅干法研磨装置，包括成品料仓(1)，其特征在于：所述成品料仓(1)下端通过下料管道与研磨机(6)连接且下料管道上设置有第二卸料阀(3)，所述研磨机(6)通过管道与布袋除尘器(8)连接且管道上设置有第二控制阀(7)，所述布袋除尘器(8)通过管道与引风机(9)连接，所述布袋除尘器(8)通过下料管道与小料仓(11)连接且下料管道上设置有第三卸料阀(10)，所述小料仓(11)通过下料管道与第二包装机(13)连接且下料管道上设置有第四卸料阀(12)，所述引风机(9)通过管道与成品料仓(1)与研磨机(6)之间的下料管道连通且管道上设置有第一控制阀(5)。

2.根据权利要求1所述的一种沉淀法二氧化硅干法研磨装置，其特征在于：所述成品料仓(1)下端呈锥形斗结构，且所述成品料仓(1)底部设置有下料口(101)，所述成品料仓(1)通过下料口(101)和第二卸料阀(3)与研磨机(6)连通。

3.根据权利要求1所述的一种沉淀法二氧化硅干法研磨装置，其特征在于：所述布袋除尘器(8)通过管道连通有空压机(14)，所述空压机(14)和引风机(9)分别与布袋除尘器(8)内部连通。

4.根据权利要求1所述的一种沉淀法二氧化硅干法研磨装置，其特征在于：所述研磨机(6)内壁为涡流式结构，所述研磨机(6)内设置有研磨盘(61)，所述研磨盘(61)下端插接有转轴(62)，所述转轴(62)下端设置有电机(63)，所述电机(63)上设置有减速机(64)。

5.根据权利要求4所述的一种沉淀法二氧化硅干法研磨装置，其特征在于：所述研磨盘(61)上端设置为圆锥型，且所述转轴(62)上端设置有固定块(621)，所述转轴(62)贯穿研磨机(6)并与其连接处设置有密封圈(622)，所述转轴(62)通过固定块(621)与研磨盘(61)固定连接。

6.根据权利要求1所述的一种沉淀法二氧化硅干法研磨装置，其特征在于：所述研磨机(6)上端设置有上盖(65)，所述上盖(65)左端设置有进料口(66)。