[实用新型]一种沉淀法二氧化硅干法研磨装置

说明书

本实用新型公开了研磨装置领域的一种沉淀法二氧化硅干法研磨装置，包括成品料仓，成品料仓下端通过两个下料管道分别与第一包装机和研磨机连接且两个下料管道上分别设置有第一卸料阀和第二卸料阀，研磨机通过管道与布袋除尘器连接且管道上设置有第二控制阀，布袋除尘器通过管道与引风机连接，布袋除尘器通过下料管道与小料仓连接且下料管道上设置有第三卸料阀，首先保留原包装流程，实现生产线多种规格粒度要求产品的加工需求，然后新增研磨机和布袋除尘器，实现产品颗粒大小的深加工，满足超细二氧化硅客户群体的需求，最后实现了沉淀法二氧化硅干产品精细加工，节能环保，并且控制更加稳定。

技术领域

本实用新型涉及研磨装置领域，具体是一种沉淀法二氧化硅干法研磨装置。

背景技术

二氧化硅是化学术语，纯的二氧化硅无色，常温下为固体，不溶于水，不溶于酸，但溶于氢氟酸及热浓磷酸，能和熔融碱类起作用，自然界中存在有结晶二氧化硅和无定形二氧化硅两种，二氧化硅用途很广泛，主要用于制玻璃、水玻璃、陶器、搪瓷、耐火材料、气凝胶毡、硅铁、型砂、单质硅和水泥等。

现有技术中，沉淀法二氧化硅在生产中的滤饼制浆环节若不采用高强度剪切力的搅拌装置，很难实现浆料的均匀分散，致使生产出来的产品颗粒大小不均，粒径分布较宽，浆料湿法研磨设备或高强剪切力的搅拌装置虽能改善产品的粒度，但需要的功耗更高并且产品的粒度分布相对也不容易控制，而且现有的产品保证流程为物料经成品料仓后由第一卸料阀进入第一包装机进行产品包装，大小不均的颗粒经第一包装机就完成了产品加工包装，未进行精加工，无法满足现有客户需要。因此，本领域技术人员提供了一种沉淀法二氧化硅干法研磨装置，以解决上述背景技术中提出的问题。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种沉淀法二氧化硅干法研磨装置，以解决上述背景技术中提出的问题。

本实用新型的技术方案是这样实现的：本实用新型的目的在于提供一种沉淀法二氧化硅干法研磨装置，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：

一种沉淀法二氧化硅干法研磨装置，包括成品料仓，所述成品料仓下端通过下料管道与研磨机连接且下料管道上设置有第二卸料阀，所述研磨机通过管道与布袋除尘器连接且管道上设置有第二控制阀，所述布袋除尘器通过管道与引风机连接，所述布袋除尘器通过下料管道与小料仓连接且下料管道上设置有第三卸料阀，所述小料仓通过下料管道与第二包装机连接且下料管道上设置有第四卸料阀，所述引风机通过管道与成品料仓与研磨机之间的下料管道连通且管道上设置有第一控制阀。

作为一种优选的实施方式，所述成品料仓下端呈锥形斗结构，且所述成品料仓底部设置有下料口，所述成品料仓通过下料口和第二卸料阀与研磨机连通，使用时，通过在成品料仓增设下料口，使得二氧化硅原料通过第二卸料阀和第一控制阀后进入研磨机，便于实现产品颗粒大小的精加工。

作为一种优选的实施方式，所述布袋除尘器通过管道连通有空压机，所述空压机和引风机分别与布袋除尘器内部连通，使用时，启动空压机，将引风机通入布袋除尘器内部的空气进行压缩，使研磨后的原料在布袋除尘器内进行过滤，除去大颗粒原料，从而得到更均匀的细小颗粒原料。

作为一种优选的实施方式，所述研磨机内壁为涡流式结构，所述研磨机内设置有研磨盘，所述研磨盘下端插接有转轴，所述转轴下端设置有电机，所述电机上设置有减速机，使用时，启动电机，通过联轴器带动转轴转动，使研磨盘在研磨机内对二氧化硅原料涡流式研磨，且通过减速机可控制转轴的转速，从而得到不同粒径分布的多种产品，提高了其实用性。

作为一种优选的实施方式，所述研磨盘上端设置为圆锥型，且所述转轴上端设置有固定块，所述转轴贯穿研磨机并与其连接处设置有密封圈，所述转轴通过固定块与研磨盘固定连接，当原料通过进料口进入研磨机内部时，上部圆锥型设置的研磨盘可使原料导入研磨盘侧端，避免原料落到研磨盘顶端导致研磨不到。