[实用新型]超声波清洗结构及台盆

权利要求书

1.一种超声波清洗结构，其特征在于，包括壳体组件、分隔件、清洗组件以及电控组件，其中：

所述壳体组件具有内腔以及连通所述内腔的敞口，所述壳体组件还具有连通所述内腔的排水孔；

所述分隔件固定安装于所述内腔，所述分隔件将所述内腔分隔形成第一腔室和第二腔室，所述敞口连通所述第一腔室，所述排水孔连通所述第二腔室；

所述清洗组件和所述电控组件均连接于所述壳体组件，并位于所述第一腔室；所述清洗组件包括清洗槽以及固定安装于所述清洗槽的超声波换能器，所述超声波换能器与所述电控组件电连接；所述清洗槽的侧壁上开设有溢水孔，所述溢水孔与所述第二腔室相连通。

2.如权利要求1所述的超声波清洗结构，其特征在于，所述第一腔室位于所述第二腔室的上方；所述壳体组件具有第一侧壁，所述第一侧壁与所述清洗槽的外壁之间形成有第一通道，所述溢水孔连通所述第一通道；所述分隔件的外周缘与所述第一侧壁之间形成有连通所述第一通道和所述第二腔室的过流通道。

3.如权利要求2所述的超声波清洗结构，其特征在于，

所述电控组件包括主控板，所述超声波换能器与所述主控板电连接；

所述分隔件包括下隔板及固定连接于所述下隔板上方的围板，所述下隔板将所述内腔分隔形成所述第一腔室和所述第二腔室；所述下隔板以及所述围板围合形成隔离腔，所述主控板固定安装于隔离腔；所述围板的外壁面与所述第一侧壁之间形成所述过流通道。

4.如权利要求3所述的超声波清洗结构，其特征在于，所述第一腔室设有上隔板，所述清洗槽位于所述上隔板的上方；所述上隔板与所述围板固定连接，所述上隔板、所述围板以及所述下隔板之间围合形成所述隔离腔。

5.如权利要求4所述的超声波清洗结构，其特征在于，所述壳体组件还具有第二侧壁，所述清洗槽与所述第二侧壁之间形成有第二通道；所述第二通道与所述隔离腔相连通；

所述电控组件还包括与所述主控板电连接的显示电路板，所述显示电路固定安装于所述第二通道。

6.如权利要求5所述的超声波清洗结构，其特征在于，所述清洗槽的外周设有翻边，所述翻边覆盖于所述敞口上；

所述翻边上对应所述第二通道的位置开设有避让孔；所述翻边上设有显示盖板，所述显示盖板覆盖于所述避让孔上；所述显示盖板与所述显示电路板电连接。

7.如权利要求5所述的超声波清洗结构，其特征在于，所述第一腔室内设有中隔板，所述中隔板的下端与所述上隔板固定连接，并向所述敞口的方向延伸；所述中隔板位于所述第二侧壁与所述清洗槽之间，并与所述第二侧壁之间形成所述第二通道。

8.如权利要求7所述的超声波清洗结构，其特征在于，

所述壳体组件包括外壳体和内壳体；

所述外壳体形成有所述内腔，所述外壳体上开设有所述敞口和所述排水孔；

所述内壳体固定安装于所述第一腔室，所述内壳体形成有所述第一侧壁和所述第二侧壁；所述内壳体套设于所述清洗槽的外围；所述中隔板和所述上隔板均固定安装于所述内壳体。

9.如权利要求4所述的超声波清洗结构，其特征在于，所述上隔板开设有过孔，所述围板对应所述过孔的位置向所述隔离腔内侧凹陷形成避位槽，所述下隔板对应所述避位槽的位置开设有让位槽；所述上隔板上设有紧固件，所述紧固件穿设所述过孔、所述避位槽以及所述让位槽并与所述壳体组件固定连接。

10.如权利要求1至9中的任一项所述的超声波清洗结构，其特征在于，所述超声波清洗结构还包括水路模块，所述水路模块与所述清洗槽相连接；所述水路模块固定安装于所述第二腔室，并与所述电控组件电连接。