[实用新型]烤箱

权利要求书

1.烤箱，其特征在于，包括：

本体，所述本体内设有烹饪腔；

发热管，设于所述烹饪腔内；

热反射件，设于所述烹饪腔内，其具有至少一个反射部，所述反射部的部分或者全部位于所述发热管的正下方，所述反射部用于反射所述发热管向下发散的热辐射。

2.根据权利要求1所述的烤箱，其特征在于，所述反射部为沿所述热反射件的长度方向延伸设置的反射面。

3.根据权利要求2所述的烤箱，其特征在于，所述热反射件包括沿所述发热管的长度方向延伸设置的杆体，所述杆体位于所述发热管的下方，所述反射面设于所述杆体的侧部。

4.根据权利要求3所述的烤箱，其特征在于，所述反射面设置有两个，两个所述反射面分别位于所述杆体的两侧。

5.根据权利要求3所述的烤箱，其特征在于，所述杆体为钣金件，所述反射面设于所述钣金件的外表面。

6.根据权利要求5所述的烤箱，其特征在于，所述反射面为金属镜面或者反射涂层。

7.根据权利要求6所述的烤箱，其特征在于，所述反射面为反射涂层时，所述反射涂层为铝硅合金镀层。

8.根据权利要求5所述的烤箱，其特征在于，所述钣金件的上端具有拐角部，所述钣金件的下端具有向内弯折的翻边部，两个所述反射面分居于所述拐角部的两侧。

9.根据权利要求3所述的烤箱，其特征在于，

所述杆体的两端分别设有一插接部，所述本体的侧壁设有与对应的所述插接部相匹配的插槽。

10.根据权利要求1所述的烤箱，其特征在于，

所述热反射件的横截面的任意两点之间的距离小于所述发热管的直径。

11.根据权利要求1所述的烤箱，其特征在于，

所述烹饪腔内设有位于所述热反射件的下方的托盘，所述烹饪腔的内壁设有与所述反射部对应的反射结构，所述反射结构能够将所述反射部反射的热辐射反射至所述托盘上。

12.根据权利要求11所述的烤箱，其特征在于，

所述反射结构包括设于所述烹饪腔的顶壁且位于所述发热管的两侧的反射板，所述反射板能够将所述反射部反射的热辐射反射至所述托盘位于所述热反射件的正下方的区域。