[实用新型]一种改善膜厚均匀性的CVD设备

权利要求书

1.一种改善膜厚均匀性的CVD设备，其特征在于，包括：外壳(6)、顶盖(1)、加热载台(2)、气柜(3)和通气管道(4)，其中，

所述顶盖(1)与外壳(6)铰接，所述加热载台(2)设置在外壳(6)内，所述顶盖(1)与加热载台(2)为圆形，所述顶盖(1)与外壳(6)构成反应腔体；

所述顶盖(1)通过所述通气管道(4)与所述气柜(3)连接；

所述加热载台(2)包括多个通气区域，所述通气区域中设有多个晶圆载盘(21)，每个所述通气区域分别通过所述通气管道(4)与所述气柜(3)连接；

所述晶圆载盘(21)包括：真空吸盘(211)和环形分流盘(212)，

所述真空吸盘(211)为圆形，用于吸附晶圆；所述环形分流盘(212)为圆环状，所述真空吸盘(211)设置在所述环形分流盘(212)的圆环内，所述真空吸盘(211)与所述环形分流盘(212)同轴设置；

所述环形分流盘(212)的圆环内侧四周均匀设有多个气孔(213)，同一通气区域内的所述环形分流盘(212)上的多个气孔(213)通过同一个通气管道(4)与所述气柜(3)连接。

2.根据权利要求1所述的一种改善膜厚均匀性的CVD设备，其特征在于，所述顶盖(1)包括：密封圈(11)和匀流板(12)，所述密封圈(11)为圆环状，设置在所述顶盖(1)的四周；所述匀流板(12)位于密封圈(11)的圆环内，所述匀流板(12)上设有均匀分布的多个通孔，所述匀流板(12)上的通孔通过所述通气管道(4)与所述气柜(3)连接。

3.根据权利要求1所述的一种改善膜厚均匀性的CVD设备，其特征在于，所述加热载台(2)包括位于所述加热载台(2)中部的一个圆形通气区域和位于所述加热载台(2)边缘的四个扇形通气区域，圆形通气区域中所述晶圆载盘(21)沿圆周均匀分布，扇形通气区域中所述晶圆载盘(21)沿扇形均匀分布。

4.根据权利要求3所述的一种改善膜厚均匀性的CVD设备，其特征在于，圆形通气区域中所述晶圆载盘(21)数量为7个，扇形通气区域中所述晶圆载盘(21)数量为3个。

5.根据权利要求1所述的一种改善膜厚均匀性的CVD设备，其特征在于，所述环形分流盘(212)的高度大于晶圆表面的高度，所述气孔(213)位于晶圆表面的上方。

6.根据权利要求1所述的一种改善膜厚均匀性的CVD设备，其特征在于，所述气孔(213)的直径小于1mm。

7.根据权利要求1所述的一种改善膜厚均匀性的CVD设备，其特征在于，所述通气管道(4)上设有流量计(5)。