[发明专利]一种石墨烯-铜基纳米铜膜生产设备

权利要求书

1.一种石墨烯-铜基纳米铜膜生产设备，其特征在于：包括溶液池(1)，所述溶液池(1)的内部固定安装有多个分隔板(2)，多个所述分隔板(2)将溶液池(1)分割为多个不同的区域，所述溶液池(1)的顶部安装有反应池(3)，所述反应池(3)的底部开设有多个通液槽(4)，所述通液槽(4)的位置安装有电磁阀(5)，多个所述通液槽(4)的位置对应多个所述分隔板(2)分隔的区域，所述溶液池(1)与反应池(3)之间安装有引流组件，用于将溶液池(1)内部的溶液引流进入到反应池(3)的内部。

2.根据权利要求1所述的一种石墨烯-铜基纳米铜膜生产设备，其特征在于：所述分隔板(2)的数量包括有四个，将所述溶液池(1)分割为五个区域，包括铜离子溶液区(6)、还原剂溶液区(7)、氧化石墨烯悬浊液区(8)、酸性溶液区(9)和清洗溶液区(10)，所述氧化石墨烯悬浊液区(8)的内部安装有安装框(11)，所述安装框(11)的表面安装有分滤板(12)，所述分滤板(12)用于分离水溶液和氧化石墨烯。

3.根据权利要求2所述的一种石墨烯-铜基纳米铜膜生产设备，其特征在于：所述反应池(3)的内部安装有支撑柱(13)，所述支撑柱(13)的数量设置有多个，矩形阵列在反应池(3)的内部，所述通液槽(4)位于相邻的两列支撑柱(13)之间，所述通液槽(4)的数量设置为五个，分别对应五个不同的区域，所述反应池(3)的内部安装有超声波发生器(14)，所述反应池(3)的表面安装有发生电源(15)。

4.根据权利要求1所述的一种石墨烯-铜基纳米铜膜生产设备，其特征在于：所述反应池(3)底部的大于与溶液池(1)顶部的大小完全相同，所述反应池(3)的顶部安装有防脱框(16)，所述反应池(3)安装在防脱框(16)的内部。

5.根据权利要求1所述的一种石墨烯-铜基纳米铜膜生产设备，其特征在于：所述引流组件包括五个引流管(17)，五个所述引流管(17)分别对应五个不用的区域，所述反应池(3)的表面安装有五个泵体(18)，五个所述泵体(18)的出水端分别与五个所述引流管(17)的进水端连接，所述泵体(18)的进水端安装有进水管(19)，所述进水管(19)延伸进入到溶液池(1)的内部，所述引流管(17)的出水端延伸至反应池(3)的内部。

6.根据权利要求5所述的一种石墨烯-铜基纳米铜膜生产设备，其特征在于：所述引流管(17)的顶部延伸至反应池(3)的上方，所述引流管(17)为柔性材质，所述反应池(3)的表面固定安装有卡扣组件，用于固定引流管(17)的位置。

7.根据权利要求6所述的一种石墨烯-铜基纳米铜膜生产设备，其特征在于：所述卡扣组件包括安装块(20)，所述安装块(20)的表面开设有横槽(21)，所述引流管(17)的表面卡在横槽(21)的内部，所述横槽(21)的内部开设有凹槽(22)，所述凹槽(22)的内部安装有挤压弹簧(23)，所述挤压弹簧(23)的一端安装有卡块(24)，所述卡块(24)卡在凹槽(22)的内部。

8.根据权利要求7所述的一种石墨烯-铜基纳米铜膜生产设备，其特征在于：所述凹槽(22)的数量分别设置有两个，对应设置在横槽(21)的两侧，所述卡块(24)的数量也分别设置有两个，两个所述卡块(24)的相对端均设置为圆弧状。

9.根据权利要求3所述的一种石墨烯-铜基纳米铜膜生产设备，其特征在于：所述反应池(3)的两端安装有承托把手(25)，所述承托把手(25)位于发生电源(15)的下方。