[发明专利]光学薄膜、基底玻璃以及伪全息投影系统在审

专利信息
申请号: 202310154289.1 申请日: 2023-02-23
公开(公告)号: CN116106994A 公开(公告)日: 2023-05-12
发明(设计)人: 纪智辉;王新国 申请(专利权)人: 世优(北京)科技有限公司
主分类号: G02B1/115 分类号: G02B1/115;G02B27/00;G02B30/56;G03B35/18
代理公司: 北京天同知创知识产权代理事务所(普通合伙) 16046 代理人: 宋晓云
地址: 100020 北京市朝阳*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 光学薄膜 基底 玻璃 以及 全息 投影 系统
【权利要求书】:

1.一种光学薄膜,用于设置在基底玻璃上,其特征在于,所述光学薄膜包括多层光学材料层,从所述基底玻璃至空气界面方向,所述多层光学材料层中第奇数层的光学材料层的折射率大于第偶数层的光学材料层的折射率。

2.根据权利要求1所述的光学薄膜,其特征在于,

所述第奇数层的光学材料层选用以下至少之一:二氧化钛和五氧化二钽;

所述第偶数层的光学材料层选用以下至少之一:氟化镁和二氧化硅。

3.根据权利要求2所述的光学薄膜,其特征在于,所述多层光学材料层的层数为八层,每层光学材料层的厚度彼此不同。

4.根据权利要求3所述的光学薄膜,其特征在于,在所述第奇数层的光学材料层选用二氧化钛、所述第偶数层的光学材料层选用氟化镁的情况下,

第一层的光学材料层的厚度、第三层的光学材料层的厚度、第五层的光学材料层的厚度依次递增,第七层的光学材料层的厚度大于所述第三层的光学材料层的厚度但小于所述第五层的光学材料层的厚度;

第二层的光学材料层的厚度、第四层的光学材料层的厚度、第六层的光学材料层的厚度依次递减,第八层的光学材料层在所述多层光学材料层中厚度最厚。

5.根据权利要求4所述的光学薄膜,其特征在于,

在所述第一层的光学材料层的厚度、所述第三层的光学材料层的厚度、所述第五层的光学材料层的厚度依次递增时,后一奇数层的光学材料层的厚度至少递增为前一奇数层的光学材料层的厚度的3倍;

在所述第二层的光学材料层的厚度、所述第四层的光学材料层的厚度、所述第六层的光学材料层的厚度依次递减时,后一偶数层的光学材料层的厚度至多递减为前一偶数层的光学材料层的厚度的50%。

6.根据权利要求3所述的光学薄膜,其特征在于,在所述第奇数层的光学材料层选用二氧化钛、第二层和第四层的光学材料层选用二氧化硅、第六层和第八层的光学材料层选用氟化镁的情况下,

第一层的光学材料层的厚度、第三层的光学材料层的厚度、第五层的光学材料层的厚度依次递增,第七层的光学材料层的厚度大于所述第三层的光学材料层的厚度但小于所述第五层的光学材料层的厚度;

第二层的光学材料层的厚度、第四层的光学材料层的厚度、第六层的光学材料层的厚度依次递减,第八层的光学材料层在所述多层光学材料层中厚度最厚。

7.根据权利要求3所述的光学薄膜,其特征在于,在第一层和第五层的光学材料层选用二氧化钛、第三层和第七层的光学材料层选用五氧化二钽、第二层的光学材料层选用二氧化硅、第四层、第六层、第八层的光学材料层选用氟化镁的情况下:

所述第奇数层的光学材料层的厚度依次递增;

所述第二层的光学材料层的厚度、所述第四层的光学材料层的厚度、所述第六层的光学材料层的厚度依次递减,所示第八层的光学材料层在所述多层光学材料层中厚度最厚。

8.根据权利要求1至7中任一项所述的光学薄膜,其特征在于,所述光学薄膜用于设置在所述基底玻璃的后表面,使得所述基底玻璃的前表面与后表面反射的光能够发生干涉。

9.一种基底玻璃,其特征在于,所述基底玻璃为光学玻璃,所述基底玻璃的后表面上设置有权利要求1至8中任一项所述的光学薄膜。

10.一种伪全息投影系统,其特征在于,包括:

投影源屏幕;

背景物,设置在所述投影源屏幕的下方;

全息显示装置,由至少两个如权利要求9所述的基底玻璃组成,设置在所述投影源屏幕的下方,用于对所述投影源屏幕和所述背景物发出的光线进行透射,形成伪全息图像。

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