[发明专利]一种晶圆清洗装置在审
申请号: | 202310173858.7 | 申请日: | 2023-02-28 |
公开(公告)号: | CN116072574A | 公开(公告)日: | 2023-05-05 |
发明(设计)人: | 王鹏;徐俊成;刘丰迪;张美美 | 申请(专利权)人: | 华海清科(北京)科技有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;H01L21/687 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 100000 北京市大兴区经济技*** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 清洗 装置 | ||
本发明公开了一种晶圆清洗装置,其包括:夹持组件,其水平夹持并驱动晶圆旋转;刷洗组件,其设置于所述夹持组件的侧部;所述刷洗组件包括摆臂,所述摆臂能够摆动至夹持组件的上方,其上的清洗刷沿晶圆的半径方向摆动以刷洗晶圆;所述清洗刷随所述摆臂沿竖直方向移动并抵压于晶圆表面,并且,所述清洗刷能够绕竖向轴线转动以刷洗晶圆。
技术领域
本发明属于晶圆后处理技术领域,具体而言,涉及一种晶圆清洗装置。
背景技术
集成电路产业是信息技术产业的核心,在助推制造业向数字化、智能化转型升级的过程中发挥着关键作用。芯片是集成电路的载体,芯片制造涉及集成电路设计、晶圆制造、晶圆加工、电性测量、切割封装和测试等工艺流程。
随着集成电路技术的不断发展,晶圆清洗工序对于晶圆制造良品率的提升愈发重要,同时对清洗的效果越来越严苛,刷洗作为一种高效的去除污染物的技术手段,广泛应用于晶圆制造中,尤其是化学机械抛光后的晶圆后处理中。
现有的刷洗装置中,配置有刷洗水平平移平台/垂直升降装置,以带动刷洗臂进行水平往复运动和垂直上下运动。该技术方案中,装置机构和线缆拖链等运动会引入发尘问题,给晶圆的洁净带来风险。
同时,在刷洗臂中,刷洗轴需要带动刷子进行旋转和下压,在旋转部件需进行密封结构设计。现有技术中,密封结构采用磁流体密封或者旋转密封圈等方式,磁流体基载液会引入新的污染问题,旋转密封圈引入的摩擦力会对刷子刷洗稳定性带来影响。此外,旋转密封圈存在磨损问题,这不利于提升晶圆的清洗效果。
发明内容
本发明实施例提供了一种晶圆清洗装置,旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。
本发明的实施例提供了一种晶圆清洗装置,其包括:
夹持组件,其水平夹持并驱动晶圆旋转;
刷洗组件,其设置于所述夹持组件的侧部;
所述刷洗组件包括摆臂,所述摆臂能够摆动至夹持组件的上方,其上的清洗刷沿晶圆的半径方向摆动以刷洗晶圆;
所述清洗刷随所述摆臂沿竖直方向移动并抵压于晶圆表面,并且,所述清洗刷能够绕竖向轴线转动以刷洗晶圆。
在一些实施例中,所述摆臂包括固定板,所述固定板设置有驱动电机,所述驱动电机将动力传递至转动轴,所述清洗刷可拆卸地连接于所述转动轴的下端。
在一些实施例中,所述固定板的端部配置有安装座,所述转动轴通过转接件设置于所述安装座;所述转接件的外侧配置有滚珠轴承,其内侧配置有直线轴承,所述直线轴承套设于所述转动轴的外周侧。
在一些实施例中,所述安装座的内部还设置有密封环,其罩设于所述转动轴的外周侧并位于所述转接件的底部;所述密封环配置有沟槽,所述沟槽与所述滚珠轴承及直线轴承相连通。
在一些实施例中,所述安装座配置有通气孔,所述通气孔与密封环的沟槽相连通,并且,所述通气孔与真空源连通,以抽吸进入所述沟槽中的颗粒物。
在一些实施例中,所述密封环的外沿与安装座的内侧壁之间设置有间隙,所述密封环的内沿与所述转动轴的外侧壁之间设置有间隙。
在一些实施例中,所述固定板的上方配置有安装架,气缸设置于所述安装架;所述气缸的输出端通过升降组件连接于所述转动轴,以带动所述转动轴沿竖直方向移动。
在一些实施例中,所述升降组件包括竖向件和横向件,所述竖向件滑动连接于所述安装座,所述横向件连接于所述竖向件的顶部并固定于所述转动轴的顶部。
在一些实施例中,所述横向件的下方设置有调心轴承和弹簧,所述调心轴承和弹簧套设于所述转动轴的外侧;并且所述调心轴承设置于上限位板,所述弹簧的一端抵接于所述调心轴承的下方,其另一端抵接于下限位板,所述下限位板设置于所述转动轴。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于华海清科(北京)科技有限公司,未经华海清科(北京)科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202310173858.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种适用于幕墙施工的吊篮装置及安装方法
- 下一篇:一种鸡粪除砂装置及除砂方法
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造