[发明专利]一种集成电路版图的生成方法及装置

说明书

本申请公开了一种集成电路版图的生成方法及装置，方法包括：获取第一版图中的多个元素对应的至少包括元素种类、元素尺寸、元素图层和元素位置的元素特征信息，将多个元素分别作为目标元素；利用目标元素的元素种类生成对应于所述目标元素的默认图形；将所述目标元素对应的特征信息作为所述默认图形的参数信息生成无特征版图；获取工艺规则；利用所述工艺规则调整所述默认图形的参数信息得到调整后的无特征版图；利用所述调整后的无特征版图和工艺规则得到第二版图。通过调整无特征版图得到工艺优化或工艺移植后的版图效率更高、易用性更强。

技术领域

本申请涉及集成电路技术领域，特别是涉及一种集成电路版图的生成方法及装置。

背景技术

随着科技的不断发展，集成电路的版图也会进行不断的工艺优化或者进行工艺移植。现有技术对集成电路的版图进行工艺优化或工艺移植采用手工进行调整的方式，通过手工进行工艺优化或工艺移植往往调整效率较低。

除此之外，采用手工调整集成电路版图的方式还有操作不便捷，易用性差等缺点。

发明内容

基于上述问题，本申请提供了一种集成电路版图的生成方法及装置。

本申请公开了一种集成电路版图的生成方法，所述方法包括：

获取第一版图中的多个元素对应的特征信息，将所述多个元素分别作为目标元素，所述特征信息至少包括元素种类、元素尺寸、元素图层和元素位置；

利用所述目标元素的元素种类生成对应于所述目标元素的默认图形；

将所述目标元素对应的特征信息作为所述默认图形的参数信息生成无特征版图；

获取工艺规则；

利用所述工艺规则调整所述默认图形的参数信息得到调整后的无特征版图；

利用所述调整后的无特征版图和工艺规则得到第二版图。

可选的，所述利用所述目标元素的元素种类生成对应于所述目标元素的默认图形包括：

若所述目标元素为金属线，则生成对应于所述金属线的几何线；

若所述目标元素为单元，则生成对应于所述单元的几何矩形；

若所述目标元素为孔，则生成对应于所述孔的几何点。

可选的，若所述目标元素为单元，则所述方法进一步包括：

在所述无特征版图中生成对应于所述单元端口的端口点；

在所述无特征版图中生成几何虚线，所述几何虚线对应于所述单元端口与所述单元外部金属线的连接线。

可选的，所述工艺规则包括：第一工艺规则、第二工艺规则和优化规则。

可选的，所述集成电路版图的生成方法进一步包括：

获取所述第一工艺规则中目标元素的最小尺寸与对应于所述目标元素的实际元素在第一版图中的实际尺寸之间的比例关系；

根据所述比例关系、调整后的无特征版图和第二工艺规则得到第二版图。

可选的，所述集成电路版图的生成方法进一步包括：

获取第一工艺规则中，目标元素与临近元素的尺寸比例关系；

根据所述尺寸比例关系、调整后的无特征版图和第二工艺规则得到第二版图。

可选的，所述优化规则还包括：单元的映射信息。

可选的，所述特征信息进一步包括：连接方式标识，所述连接方式标识用于标识所述目标元素之间的连接方式；