[发明专利]一种等离子体刻蚀机用抽气环结构、调节装置及调节方法

权利要求书

1.一种等离子体刻蚀机用抽气环结构，其特征在于，包括至少两个抽气环：上层抽气环(1)及下层抽气环(2)；所述抽气环设置于刻蚀腔的内部，上层抽气环(1)与下层抽气环(2)形成上下堆叠结构；所述上层抽气环(1)的结构包括水平的抽气环主体(3)，与内衬(4)形成一体式结构，通过内衬(4)上端的安装部(5)安装在刻蚀腔体(6)上，所述上层抽气环(1)内圈设置有向上延伸的弯折部(7)；所述下层抽气环(2)的结构包括抽气环主体(3)，所述抽气环主体(3)的内圈和外圈设置有向上延伸的弯折部(7)。

2.如权利要求1所述的抽气环结构，其特征在于，所述抽气环结构的厚度为刻蚀腔体直径的0.8-1.2％，两层抽气环之间的距离为所述抽气环厚度的0.5到10倍；

和/或，

上层抽气环(1)中，所述抽气环主体(3)环绕刻蚀腔内部的晶圆基座(8)设置，抽气环主体(3)的内圈和外圈分别与刻蚀腔中晶圆基座(8)的外侧以及腔体内壁(9)相抵；抽气环主体(3)内圈的弯折部(7)包裹环绕晶圆基座(8)；

下层抽气环(2)中，所述抽气环主体(3)环绕刻蚀腔内部的晶圆基座(8)设置，抽气环主体(3)的内圈和外圈分别与刻蚀腔中晶圆基座(8)的外侧以及腔体内壁(9)相抵；抽气环主体(3)内圈的弯折部(7)包裹环绕晶圆基座(8)，抽气环主体(3)外圈的弯折部(7)与腔体内壁(9)接触，内圈和外圈的弯折部(7)的上端与上层抽气环主体(3)接触；

和/或，

所述抽气环主体(3)上设置有不同尺寸、间隔、形状的多个排气孔(10)，所述排气孔(10)在抽气环主体(3)上呈同心圆放射状分布；排气孔(10)的形状包括圆形、正方形、等边三角形、细长形；当排气孔(10)的形状为圆形时，所述排气孔(10)的直径小于等于抽气环的厚度，当排气孔(10)的形状为正方形或者等边三角形时，所述排气孔(10)的边长等于抽气环的厚度，当排气孔(10)的形状为细长形时，所述排气孔(10)的窄边的长度为抽气环的厚度；

和/或，

抽气环内圈的所述弯折部(7)和刻蚀腔中的晶圆基座(8)侧壁紧贴，抽气环外圈的弯折部(7)与腔体内壁(9)紧贴，密封所述抽气环主体上方的反应腔体。

3.如权利要求2所述的抽气环结构，其特征在于，当两层抽气环之间的距离小于所述抽气环厚度的2倍时，下层抽气环(2)与上层抽气环(1)结构保持一致。

4.如权利要求1所述的抽气环结构，其特征在于，当下层抽气环(2)不需要和上层抽气环(1)实现相对转动时，所述下层抽气环(2)与所述上层抽气环(1)通过抽气环主体(3)内圈和外圈的弯折部(7)利用螺栓或者一体式结构连接在一起；

和/或，

所述下层抽气环(2)和所述上层抽气环(1)均分别与内衬连接，形成一体式结构；

当下层抽气环(2)要和上层抽气环(1)实现相对转动时，所述下层抽气环(2)与所述上层抽气环(1)无固定连接。

5.如权利要求4所述的抽气环结构，其特征在于，当下层抽气环(2)要和上层抽气环(1)实现相对转动时，所述上层抽气环(1)的内圈还向下延伸设置有L形弯折部(11)，所述下层抽气环(2)的内圈位于L形弯折部(11)空间中。

6.一种等离子体刻蚀机用多抽气环调节装置，其特征在于，所述调节装置包括如权利要求1-5之任一项所述的抽气环结构、转动机构、控制系统，所述控制系统通过控制转动机构从而控制抽气环的旋转速率或停止，通过控制抽气环的运动改变抽气效率。

7.如权利要求6所述的调节装置，其特征在于，所述转动机构包括驱动装置(12)、与驱动装置相连接的可伸缩装置(13)；

所述可伸缩装置包括气缸、连杆、丝杆、伸缩杆；

所述伸缩杆的两端分别通过固定铰链与腔体和下层抽气环相连，或通过连杆结构连接抽气环和腔体，通过驱动可伸缩装置实现抽气环的转动。