[发明专利]一种航天器太阳帆加工方法及太阳帆在审

专利信息
申请号: 202310461238.3 申请日: 2023-04-23
公开(公告)号: CN116497312A 公开(公告)日: 2023-07-28
发明(设计)人: 任仲靖;李承阳;谢可才;孙首禹;徐阳;许泽昊;闫鹏 申请(专利权)人: 山东大学
主分类号: C23C14/04 分类号: C23C14/04;C23C14/20;B64G1/44
代理公司: 济南圣达知识产权代理有限公司 37221 代理人: 马海波
地址: 250061 山东*** 国省代码: 山东;37
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摘要:
搜索关键词: 一种 航天器 太阳帆 加工 方法
【权利要求书】:

1.一种航天器太阳帆加工方法,其特征在于,包括以下步骤:

在硅片上旋涂底层,然后在底层上旋涂柔性基底薄膜;

使用光刻工艺在柔性基底薄膜上形成第一沉积区,在第一沉积区内沉积薄膜电极;

对完成薄膜电极沉积后的整体结构使用光刻工艺形成第二沉积区,然后在第二沉积区沉积合金梁,合金梁沉积在相邻两个薄膜电极之间;

使用光刻工艺在合金梁上形成第三沉积区,在第三沉积区沉积反射梁。

去除合金梁和柔性基底薄膜、薄膜电极之间因光刻工艺残留的光刻胶和牺牲层,将柔性基底薄膜从底层上剥离,以使得柔性基底薄膜产生残余应力。

2.如权利要求1所述的一种航天器太阳帆加工方法,其特征在于,所述柔性基底薄膜采用聚酰亚胺薄膜。

3.如权利要求1所述的一种航天器太阳帆加工方法,其特征在于,所述薄膜电极采用受热膨胀金属材料,优选的采用金属铝。

4.如权利要求1所述的一种航天器太阳帆加工方法,其特征在于,在柔性基底薄膜上旋涂光刻胶,进行光刻,曝光显影后形成第一沉积区,薄膜电极沉积完成后,去除第一沉积区外部的曝光后光刻胶。

5.如权利要求1所述的一种航天器太阳帆加工方法,其特征在于,所述合金梁采用受热收缩金属材料,优选的,采用镍钛形状记忆合金。

6.如权利要求1所述的一种航天器太阳帆加工方法,其特征在于,在沉积柔性基底薄膜后形成的整体结构上依次溅射牺牲层和旋涂光刻胶,进行光刻,曝光显影后形成留存的牺牲层和光刻胶,然后再次旋涂光刻胶后进行光刻,曝光显影后形成第二沉积区,在第二沉积区内沉积合金梁。

7.如权利要求1所述的一种航天器太阳帆加工方法,其特征在于,所述反射梁采用受热膨胀金属材料,优选的,采用金属铝。

8.如权利要求1所述的一种航天器太阳帆加工方法,其特征在于,去除合金梁中的多余部分和第二沉积区光刻时产生的多余的曝光后光刻胶后,在形成的整体结构上旋涂光刻胶,进行光刻,曝光显影后在合金梁上表面形成第三沉积区,在第三沉积区沉积反射梁。

9.一种太阳帆,其特征在于,采用权利要求1-8任一项所述的太阳帆加工方法制成。

10.如权利要求9所述的一种太阳帆,其特征在于,所述太阳帆的柔性基底薄膜采用十字型结构,相应的,所述薄膜电极为L型结构,设置四个,四个薄膜电极的拐角部位相向设置以使得四个薄膜电极呈十字型分布在柔性基底薄膜上且四个薄膜电极之间形成与柔性基底薄膜同心设置的十字型间隙,相邻两个薄膜电极的相对部分之间设置有多个合金梁。

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