[实用新型]一种雾化器及PECVD镀膜装置有效
申请号: | 202320284357.1 | 申请日: | 2023-02-07 |
公开(公告)号: | CN219490153U | 公开(公告)日: | 2023-08-08 |
发明(设计)人: | 安祥乐;云洋;苏建华;李顺 | 申请(专利权)人: | 深圳奥拦科技有限责任公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;C23C16/511;C23C16/505 |
代理公司: | 北京市天元律师事务所 16010 | 代理人: | 李婧 |
地址: | 518101 广东省深圳市宝*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 雾化器 pecvd 镀膜 装置 | ||
1.一种雾化器,其特征在于,包括:
内设置有腔体的阀体,所述阀体设有与所述腔体连通的进液口;
盖设于所述阀体并封装所述腔体的盖板;
与所述阀体连接的连接座,所述连接座设有与所述腔体连通的出雾口;
可拆卸固定于所述腔体内的多个挡板,相邻两个所述挡板相对间隔形成一连通空间,各所述连通空间依次连通形成相应雾化路径的雾化通道,所述雾化通道连通所述进液口与所述出雾口;
填充于所述雾化通道内的导热多孔填充物;以及
设置于所述腔体内的加热装置。
2.根据权利要求1所述的雾化器,其特征在于,还包括用于与进液管路连接的截止阀,所述截止阀的进口与所述进液管路连接,所述截止阀的出口与所述进液口连接。
3.根据权利要求1所述的雾化器,其特征在于,所述导热多孔填充物为泡沫铜或泡沫铝。
4.根据权利要求1所述的雾化器,其特征在于,还包括:
用于密封所述腔体的硅胶垫,所述硅胶垫设置于所述盖板的朝向所述腔体的一面并覆盖所述腔体。
5.根据权利要求1所述的雾化器,其特征在于,多个所述挡板依次等间距平行设置于所述腔体内。
6.根据权利要求1所述的雾化器,其特征在于,多个所述挡板通过螺钉固定于所述腔体内。
7.根据权利要求2所述的雾化器,其特征在于,还包括:
固定于所述阀体一侧面的支撑座,所述截止阀固定于所述支撑座上并通过所述支撑座与所述进液口连通。
8.根据权利要求7所述的雾化器,其特征在于,还包括第一U形架及第二U形架,所述第二U形架固定于支撑座上,所述第一U形架与所述第二U形架可拆卸连接,所述截止阀固持于所述第一U形架与所述第二U形架之间。
9.根据权利要求8所述的雾化器,其特征在于,所述第一U形架设置有第一定位凹槽和第一定位凸起,所述第二U形架设置有与所述第一定位凹槽配合的第二定位凸起及与所述第一定位凸起配合的第二定位凹槽,所述第一定位凸起嵌入所述第二定位凹槽内,所述第二定位凸起嵌入所述第一定位凹槽内。
10.一种PECVD镀膜装置,其特征在于,包括镀膜腔体、及如权利要求1至9任意一项所述的雾化器,所述雾化器的所述出雾口与所述镀膜腔体相连通。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的