[其他]产生具有加热并展宽等离子喷射的等离子流的方法及装置无效
申请号: | 85104800 | 申请日: | 1985-06-22 |
公开(公告)号: | CN85104800A | 公开(公告)日: | 1986-12-17 |
发明(设计)人: | 弗林特;长松武志 | 申请(专利权)人: | 通用电气公司 |
主分类号: | H05H1/18 | 分类号: | H05H1/18;H05H1/46 |
代理公司: | 中国专利代理有限公司 | 代理人: | 罗宏,刘元金 |
地址: | 美国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 产生 具有 加热 展宽 等离子 喷射 方法 装置 | ||
1、加热和展宽从等离子喷枪排出等离子束流的方法,包括:沿着感应线圈的中心轴引导所述的等离子流;及对所述的感应线圈通以高频交流,以便加热所述等离子流的外层甚于其中心部位,同时还增高了所述等离子流的平均温度。
2、权利要求1的方法,其上述的高频交流通过上述的感应线圈产生约为20千瓦到100千瓦的输出功率。
3、权利要求1的方法,其所述的高频交流是由频率约为500千赫到10兆赫的振荡电流构成。
4、具有加热及展宽等离子体喷射的产生等离子体流的方法,包括:引入气体流,在气体流中形成等离子体,以高速沿着第一感应线圈的中心轴方向行进;
对所述第一感应线圈通以高频交流,以便加热上述的气体,并在其中激励等离子体的放电;
从所述的气体形成等离子体射流,并且至少形成一部分所谓的等离子体放电;
沿着第二感应线圈的中心轴引导上述的等离子体射流;及对上述的第二感应线圈通以高频交流,以便既加热所述等离子射流的外层,甚于其中心部位,也增加了所述等离子体射流的平均温度。
5、权利要求4的方法,其沿第一感应线圈中心轴方向的所述气体流的速度大约在5米/秒至50米/秒之间。
6、权利要求4的方法,其通过上述第一感应线圈的高频交流能产生大约10千瓦到100千瓦之间的输出功率,并且通过上述第二感应线圈的高频交流也能产生大约20千瓦到100千瓦之间的输出功率。
7、权利要求4的方法,其通过上述第一感应线圈的所述高频交流包括频率约为500千赫到10兆赫之间的振荡电流,并且通过上述第二感应线圈的高频交流也包括频率约为500千赫至10兆赫之间的振荡电流。
8、权利要求4的方法,其中所述等离子体射流的形成步骤包括引入所述气体流,并且至少有一部分等离子体放电穿过缩小流体截面积的喉区通道,以便加速所述气体流穿过所谓的喉区并且产生等离子体射流。
9、产生等离子体射流的装置,包括:
等离子体枪,具有进口和出口,以便接收高速气体流,并在该气体中激发等离子体放电,并且至少喷出部分所述的等离子体放电,以等离子体射流形式穿过上述等离子体枪的出口;
加热器壳体,在其内具有穿通的流体通道,和上述等离子体枪的出口是流体相连通的,这样,上述的等离子体射流便被引导穿过上述流体通道;
加热器感应线圈环绕安装在上述流体通道的外边;
对上述加热器感应线圈通以高频交流的手段,该手段与上述线圈是电气连接的,因而导致既加热了上述等离子体射流的外层甚于其中心部位,也增高了上述等离子体射流的平均温度。
10、权利要求9的装置,其所述的加热器感应线圈是进一步这样安装的,使得上述线圈的纵轴与上述流体通道的纵轴具有相同轴心。
11、权利要求10的装置,其所述的流体通道呈园筒形,并且上述的加热器感应线圈呈螺旋形卷绕在上述流体通道的外面。
12、权利要求9的装置,其所述等离子体枪是一个直流电弧射流等离子体枪。
13、权利要求9的装置,其所述等离子体枪是一个无电极的射频等离子体枪。
14、等离子体喷管,包括:
具有主流体通道的壳体;
输入开口端设置在上述流体通道的一端,并与后者是流体相连通的;
输出开口端设置在上述流体通道的一端,并与后者是流体相连通的;
第一感应线圈设置在上述流体通道的进口端,该第一感应线圈卷绕在上述流体通道的外面;及
第二感应线圈设置在上述流体通道的出口端,该第二感应线圈卷绕在上述流体面道的外面。
15、权利要求14的等离子体喷管,其上述第一及第二感应线圈是这样安装的,即:每个上述的感应线圈的纵轴应和上述流体通道的纵轴具有相同轴心。
16、权利要求15的等离子体喷管,其所述流体通道呈园筒形,并且上述的第一及第二感应线圈,其每个均为呈螺旋形地卷绕在上述流体通道的外面。
17、权利要求14的等离子体喷管,其所述第一及第二感应线圈是电气相连的,这样它们就构成了一个单回路电路。
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