[其他]金相试样机械抛光自动装置

说明书

本实用新型涉及一种抛光装置，特别是一种用于金相制备的机械式自动抛光装置。

现有技术中用于金相制备的机械抛光装置的主要技术特征是手持试样或机械式自动持样。手持试样通常是操作者以右手姆指、食指、中指以近似持笔的姿式，使试样试面与抛光转盘磨面相贴。并利用手的动作对试样加压，以及频繁改变抛光方向。机械式自动持样的技术特征是对试样的形状。尺寸有比较严格的规定。以及利用加苛法在抛光过程中对试样顶部加压。所谓试样顶部是相对于将试面称之为底部而言。作为利用磁力夹持持试样。即将磁拉力作用于试面上进行加压为其主要技术特征的自动装置。国内外尚无成功的例子。

本实用新型的任务是设计一种利用磁力机构以最小磨削量和最小形变来快速完成试样抛光制备的自动装置。该装置可以同时完成不苟形状、尺寸的多只试样抛光制备，并使试面得到很好的平整度和光洁度。

将一只或几只具有铁磁性的金相试样置于较强的磁场中，并且以非磁性材料（花岗岩，铸石或陶瓷等）制作的抛光转盘将磁力源和试样隔开，使试样试面向下，并在磁场作用下贴于抛光转盘的磨面上。这时，改变磁场强度便可调整作用于试面的压强。如果被抛光的试样为不具备铁磁性的有色金属材料，只须将其镶嵌于铁磁性的钢管或铸铁管中即可。在此情形下，令磁力源与试样相对位置不变。当抛光转盘受动力驱动旋转时，试样便在转盘磨面上作平稳滑动。同时试面受到抛光作用。如果磁力源作用于试面范围内任一部位的磁力线密度基本相等。就会出现抛光试面的理想状态。这种理想状态的含义是试面上凸起的部位首先在较大压强下受到抛磨，因而使整个试面被迅速整平并得以保持。另外，在抛光过程中令试样在转盘磨面上作正圆轨迹匀速向心旋转。当其转动轨迹位于抛光转盘圆心与边缘之间时，试样便不停地被改变着抛光方向。这里所说的向心旋转，是指试样在围绕上述正圆轨迹的圆心公转时，自身也在自转。每公转一周便自转一周。且转向相同。值得注意的是。试样向心旋转轨迹的圆内不可含抛光转盘的圆心，否则试样在上述情形下其抛光方向无法被改变。由于这种抛光方向改变是在匀速向心旋转前提下进行的。所以对于减小抛光所造成的金相组织形变有显著作用。

这种抛光装置的优点是：1、能以最小磨削量使试面在微观和宏观上全部得到整平。且使整平的试面在而后的抛光制备中得以保持。2、使试面金相组织形变达到机械抛光的最小程度。3、对试样的尺寸和形状有最大的宽容度。4、便于同时抛光多只试样。5、试样装卸操作最为方便，只须放在规定位置或随手拿下即可。由于该装置具有上述优点，自动化程度高，可以大幅度提高工效和制样精度，减小劳动强度，所以期望能给金相研究者和工作者带来极大方便。

附图1为典型实施例的俯视图。附图2为主视图，其余为置样盘。

这一实用新型的具体内容可由附图和下述典型实施例给出。

参看附图1，磁钢1呈环状，为磁能积高达40－48兆高斯的钕铁硼稀土磁钢，置样盘2以奥氏体型不锈钢制成。既具有较高强度，又不受磁力影响。置样盘2分图3、图4两种规格，都开有6个置样孔，每次允许将1－6只试样置于样孔中。置样盘A（图3）主要用于圆柱体或其近似体试样的置入。置样盘B（图4）主要用于正方体。长方体或其近似体试样的置入。对于特殊形状的试样，凡置样盘孔中可以容得下的，均可得到良好的抛光制备。过于小的铁磁性材料试样或非铁磁性有色金属试样须用镶嵌法弥补。抛光转盘3为铸石或陶瓷制品，被置样盘及磁钢涉及的部位厚6mm。抛光转盘3的磨面要求有0级以上平整度外，还要求与下端面平行，以尽可能减小轴向跳动。

附图2表示该装置的主要部件磁钢1、置样盘2、抛光转盘3、动力头4、盘架5、磁钢调节组件6、抛光织物7、紧圈8、主轴9、主轴承架10、靠动力源驱动的皮带轮11的装配关系图。其中磁钢1与置样盘2同轴，以保证试样转动轨迹与磁钢的磁力线密集处重合。这是个关键。磁钢调节组件6用于调整磁钢1与抛光转盘3的间隙，借以使作用于试样的磁拉力强度得到调节。对于磁钢1及磁钢调节组件6的要求，只须使作用于试样的磁拉力在0.2－2kg／cm²范围内任意可调即可。磁拉力强度调节，可以用未端装有旋扭或小型手轮的蜗杆与磁钢调节组件6中的蜗轮相配合的方式进行。其传动顺序是，蜗杆－蜗轮－磁钢轴螺纹－磁钢。另外，动力头4内装有微型电机，驱动置样盘2作6－10转／分的匀速转动。盘架5为活动型。可使置样盘2向上杨起90度，以便于置样盘2的更换和抛光织物7的更换。抛光织物7可根据习惯和经验选用。施布金刚石研磨膏与采用自动控湿装置，可使抛光织物7使用状况达到最佳。