[发明专利]空间投影无掩模光刻圆柱形线圈法

权利要求书

1、空间投影无掩模光刻圆柱形线圈法，其特征在于包括下列步骤：①制作工件，在圆柱形线圈绝缘性骨架上镀上铜膜或别种金属膜、然后在这层金属膜表面涂覆光刻胶；②制作模板，在玻璃或金属板上制作三块弧面形模板，每块模板对截面圈心的张角略大于120度，在每块模板上根据具体要求的线宽、线间距和总匝数以机械方法或光刻方法刻出透明平行弧线，模板的大小由成像倍数决定；③曝光，用三个光源，三个弧面形模板、三个透镜成像系统彼此成120度排列在一个平面上，同时成像于位于中心位置的工件上，使三个模板上的平行弧线的像相互连接成一个围绕工件圈柱的空间螺旋线进行曝光；④将曝光后的工件投入显影和刻包这些光刻工艺的后处理工序，制成单层载电流线圈。

2、空间投影无掩模光刻圆柱形线圈法，其特征在于包括下列步骤：①制作工件，在圆柱形线圈绝缘性骨架上镀上钢膜或别种金属膜，然后在这层金属膜表面涂覆光刻胶;②制作模板，按照对线宽和线间距的要求，制作一块平面透明螺线模板，螺线方程为r＝aθ，其中r是线上点与圆心间距离，θ是极角，α是常数，根据线间距确定;③曝光，用一个光源透镜系统将平面透明螺线成像到一个虚平面上，制作一个45度截顶内锥面，内锥面表面根据要求进行抛光，使内锥面的轴线重合于透镜系统的光轴，并使内锥面与上述成像的虚平面相交，使工件轴线与光轴重合，并使工件一端接近内锥面，但不要接触，调节内锥面-工件系统沿光轴的前后位置，直至平面螺线的像被内锥面反射到工件柱面成为清晰的空间螺线，对工件曝光;④将以这种方式曝光后的工件投入显影、刻蚀这两道光刻工艺的后处理工序，制出单层载电流线圈。

3、根据权利要求1或2所述的空间投影无掩模光刻圆柱形线圈法，其特征在于包括下列步骤：①在已制成的单层载电流线圈上涂覆绝缘层;②重复进行前述的制作工件、曝光和后处理工序。