[发明专利]含三唑啉酮类的除草剂组合物

权利要求书

1.一种除草剂组合物，其特征在于：它包含有除草有效量的(1)下式的三唑啉酮其中

R是卤素或低级烷基；

R¹是卤代烷基；

X是氢，卤素，烷基，卤代烷基，烷氧基，或硝基；

Y是氢，卤素，烷基，烷氧基，卤代烷基，卤代低级烷基亚磺酰基，或卤代低级烷氧基；

Q是-CH(R²)C(R³)(R⁴)Q′或-CH＝C(R⁴)Q′；

R²是H或卤素；

R³是卤素；

R⁴是H或低级烷基；

Q′是CO₂H，CO₂R⁵，CON(R⁶)(R⁷)，CN，CHO或C(O)R⁵；

R⁵是烷基，烷氧羰基烷基，环烷基，苄基，氯代苄基，烷基苄基，或卤代烷苄基；R⁶与R⁷分别是氢，或是一个原子团，为烷基，环烷基，链烯基，炔基，烷氧基，苯基，苄基，或SO₂R⁶(其中R⁶不是H)或由卤素、烷基或氰基所取代的上述基团之一；

或是Q′为CO₂H化合物的碱加成盐；条件是烷基、链烯基或炔基部分碳原子数少于6且任何环烷基部分碳原子数为3-7，以及(2)二氯代-或氯代-低级烷基苯氧基低级烷酸，或它们相应的具除草效果的酯类，或其碱金属或铵盐，并混以一适宜的载体。

2.一种除草剂组合物，其特征在于：它含有除草有效量的(1)下式的三唑啉酮其中

R是卤素或低级烷基；

R¹是卤代烷基；

X是氢，卤素，烷基，卤代烷基，烷氧基，或硝基；

Y是氢，卤素，烷基，烷氧基，卤代烷基，卤代低级烷基亚磺酰基，或卤代低级烷氧基；

Q是-CH(R²)C(R³)(R⁴)Q′或-CH＝C(R⁴)Q′；

R²是H或卤素；

R³是卤素；

R⁴是H或低级烷基；

Q′是CO₂H，CO₂R⁵，CON(R⁶)(R⁷)，CN，CHO或C(O)R⁵；

R⁵是烷基，烷氧羰基烷基，环烷基，苄基，氯代苄基，烷基苄基，或卤代烷苄基；R⁶与R⁷分别是氢，或是一个原子团，为烷基，环烷基，链烯基，炔基，烷氧基，苯基，苄基，或SO₂R⁶(其中R⁶不是H)或由卤素、烷基或氰基所取代的上述基团之一；

或是Q′为CO₂H化合物的碱加成盐；条件是烷基、链烯基或炔基部分碳原子数少于6且任何环烷基部分碳原子数为3-7，以及(2)下式的磺酰脲其中Z是N或CH；R是H或-CH₃；R¹和R²是-OCH₃或-CH₃；R³是CO₂CH₃或Cl；n是0或1；R⁴是或SO₂C₂H₅；R⁵是CH₃或；以及R⁶是，其中R⁷是-OCH₃或-OC₂H₅。

3.如权利要求1所述的组合物，其特征在于：它含有具下式结构的三唑啉酮，以及二氯代一或氯代一低级烷基苯氧基低级烷酸或其相应的具除草效果的酯，或其碱金属盐或铵盐，并混以一适宜的载体。