[发明专利]涂覆玻璃的方法和设备

权利要求书

1.一种涂覆移动基体以提供随着从基体一涂料界面的距离增加而有连续变化的化学组成的涂层的方法，该方法包括下列步骤：

将蒸气涂料组合物对准基体表面上的第一预定位置；

在第一方向沿基体表面的第一区域移动第一部分的蒸气；在相对于第一方向的第二方向沿基体表面的第二区移动第二部分蒸气；

将第一部分涂料组合物保持在基体表面上的时间长于第二部分涂料组合物蒸气保持在基体表面的第二区的时间以涂覆基体。

2.权利要求1的方法，其中蒸气涂料组合物至少有两个含金属的前体。

3.权利要求2的方法，其中的基体是玻璃基体。

4.权利要求3的方法，其中含金属的前体之一是选自锡、钛、钨、锑的金属。

5.权利要求2的方法，该方法进一步包括在第一预定位置一侧并与之相距的第二预定位置和与第一、第二预定位置(第二预定位置在第一、第三预定位置之间)相距的第三预定位置。

6.权利要求5的方法，其中基体的涂覆是在一有非氧化气氛的室中进行的，并进一步包括提供一惰性气体帘以阻止非氧化气氛进入预定的位置，其中惰性气体帘和其间的预定位置限定涂覆位置。

7.权利要求6的方法，其中所说的室含可氧化的熔融金属浴；基体是支承在熔融金属上的玻璃带，向前移动通过室和涂覆位置。

8.权利要求2的方法，其中所说的维持步骤的完成是在所说的第一预定位置的每一侧提供排气装置，其中的一个排气装置距第一预定位置的距离为“X”，另一排气装置距第一预定位置的距离为“Y”，X/Y＞1。

9.权利要求3的方法，其中的一个含金属的前体是含至少一个硅一氧键的含硅前体。

10.权利要求9的方法，其中所说的涂覆步骤包括将含硅前体与一催速剂混合以增加氧化硅在玻璃基体上的涂料沉积速率。

11.权利要求2的方法，其中至少一个含金属的前体是含硅前体。

12.一种涂覆设备，该设备包括：

向玻璃表面涂覆蒸气的装置；

相距于蒸气涂覆装置一侧的第一排气装置；

相距于蒸气涂覆装置另一侧的第二排气装置，与蒸气涂覆装置和第一排气装置对齐；

安置所说第一和第二排气装置与所说的涂覆装置互相间的位置，使第一排气装置与蒸气涂覆装置间的距离限定为“X”，第二排气装置与蒸气涂覆装置间的距离限定为“Y”，“X”和“Y”值不相同。

13.权利要求12的涂覆设备，其中X/Y比是在约1.2-50的范围。

14.一种涂覆设备，该设备包括：

包括向基体涂覆蒸气的喷嘴的设备，喷嘴有一喷口；

具有在蒸气涂覆装置一侧并与之相距的口的第一排气装置；

具有在蒸气涂覆装置另一侧并与之相距的第二排气装置，并与所说的蒸气涂覆装置对齐；

安排所说第一和第二排气装置的装置，所说蒸气涂覆装置相对于基体表面使所说的蒸气涂覆装置的所说开口的表面和所说第一排气装置的所说开口的距离不同于所说的第二排气装置和基体间的距离。

15.一种涂覆设备，该设备包括：

向基体涂覆蒸气的装置；

在蒸气涂覆装置一侧并与之相距的第一排气装置；

在蒸气涂覆装置另一侧并与之相距的第二排气装置，并与所说的蒸气涂覆装置和所说的第一排气装置对齐；

控制所说蒸气涂覆装置和所说第一、第二排气装置的流量容积的装置，使所说蒸气涂覆装置的流量容积不同于至少一个所说排气装置的流量容积。