[发明专利]用于制作供压制特定光盘用的模具的主盘及其制作方法

权利要求书

1．一种用于制作为压制特定光盘所使用的模具的主盘，它包含由一底片构成的第一层，在其表面处设有第二层，第二层具有反映着所要复制信息的一系列微型沟槽，其特征在于，所述的一系列微型沟槽是由可在近红外区产生反射的硬质导电材料构成的。

2．根据权利要求1所述的主盘，其特征在于，所述可在近红外区产生反射的硬质导电材料是由锆、铪或钛的氮化物或碳氮化物中选择出的。

3．根据权利要求1所述的主盘，其特征在于，所述底片是铝制的。

4．根据权利要求1所述的主盘，其特征在于，所述底片是由已经脱碱和/或回火处理的玻璃制作的。

5．根据权利要求1至3中之一所述的主盘，其特征在于，所述一系列微型沟槽仅形成在所述的可在近红外区产生反射的硬质导电材料的表面上。

6．根据权利要求1所述的主盘，其特征在于，所述底片是用与形成一系列微型沟槽的材料相同的材料制成的。

7．根据权利要求1所述的主盘，其特征在于，所述可在近红外区产生反射的硬质导电材料为氮化钛。

8．根据权利要求1所述的主盘，其特征在于，所述微型沟槽的深度大约为500至2000埃，主盘的总厚度大约为1至5毫米，主盘的直径大约为150至200毫米。

9．一种用于制作根据权利要求1至3、6和7中之一所述的为压制特定光盘所使用的模具的主盘的制作方法，其步骤包括：

-在一基片上沉积一层光敏树脂；

-通过已根据所需录制信号进行了调制的光束的作用，将所要复制的信息作为潜象录入所述光敏树脂层中；

-除去已曝光的光敏树脂区，以形成一系列微型沟槽；

其特征在于它还包括下述步骤：

-在沉积光敏树脂层之前，先在基片上沉积一层可在近红外区产生反射的硬质导电材料；

-在除去已曝光的光敏树脂区的步骤之后，将所述信息传递进入该材料层，

-在传递步骤之后，除去残留的树脂区。

10．一种制作根据权利要求6所述的主盘的方法，其步骤包括：

-在一基片上沉积一层光敏树脂；

-通过已根据所需录制信号进行了调制的光束的作用，将所要复制的信息作为潜象录入所述光敏树脂层中；

-除去未曝光的光敏树脂区，以形成一系列微型沟槽；

其特征在于它还包括：所述基片是由所述材料制成的，且在除去未曝光的光敏树脂区之后，将信息传递进入所述基片中，然后除去残留的树脂区。

11．一种制作根据权利要求5所述的主盘的方法，其步骤包括：

-在一基片上沉积一层光敏树脂；

-通过已根据所需录制信号进行了调制的光束的作用，将所要复制的信息作为潜象录入所述光敏树脂层中；

-除去已曝光的光敏树脂区，以形成一系列微型沟槽；

其特征在于它还包括：在除去已曝光的光敏树脂区之后，将信息传递进入所述基片中，然后除去残留的树脂区，再沉积至少一层所述材料。

12．根据权利要求9至11中任一项所述的方法，其特征在于，所述光束为激光光束，光敏物质的除去是通过化学浸蚀或利用氧等离子体的浸蚀作用而实施的，信息的传递是利用化学蚀刻法或使用激活的等离子体蚀刻法而实施的。

13．根据权利要求1至8中任一项所述的和/或根据权利要求9至12中任一项所述方法制作的主盘，它被用来制作为压制光盘所使用的模具。