[发明专利]塑料材料加工件涂镀金属层的方法

权利要求书

1、一种将塑料材料加工件涂镀上含金属层的方法，它在真空室中用磁场增强溅射上该镀层的主要组分的方式进行，包括至少在加工件涂镀含金属层的主要时间间隔里在氩气和含碳气的气体混合物气氛中进行溅射的步骤。

2、按权利要求1的方法，其中所述溅射是磁控溅射。

3、按权利要求1的方法，其中包括溅射金属或金属合金的步骤。

4、按权利要求1的方法，其中在氩/甲烷气体混合物气氛中进行所述溅射。

5、按权利要求1的方法，其中所述气体混合物的比例在所述涂镀期间保持基本恒定。

6、按权利要求1的方法，其中在所述真空室内的压力在所述涂镀期间保持基本恒定。

7、按权利要求1的方法，其中所述气体混合物含有3%-20%（体积）的甲烷（包括上下限），优选含有3%-10%（体积）（包括上下限）的甲烷，进一步优选含有约5%（体积）的甲烷。

8、按权利要求1的方法，其中供所述溅射用的电力在所述涂镀期间保持基本恒定。

9、按权利要求1的方法，其中所述加工件由PMMA材料构成。

10、按权利要求9的方法，其中所述PMMA加工件结构成储存盘的形式。

11、按权利要求10的方法，其中结构成储存盘的加工件制成光学储存盘的形式。

12、按权利要求11的方法，其中所述涂镀费时不到10秒，优选5到6秒，形成的带镀层的PMMA光盘符合IEC856和857标准。

13、一种镀铝或铝合金的PMMA光学储存盘，该镀层是在氩气和含碳气的气体混合物气氛中用磁场增强溅射的方式涂镀的。

14、按权利要求13的光盘，所述镀层以磁控溅镀方式涂镀。

15、按权利要求13的光盘，其中所述镀层是在不到10秒之内涂镀的，优选在5到6秒内涂镀，该光盘符合IEC856和857标准。

16、一种在至少一个塑料材料加工件上涂镀含金属层的装置，包括一个带有至少一个所述镀层主要组分的磁场增强溅射源的真空室，该真空室通过可控的气体进料装置与一个其中含氩和含碳气体的气体混合物贮罐相连，或是与至少两个分别含氩和含碳气的贮罐相连，该装置还包括一个抽真空泵设备，将至少一个加工件送入室内的装置和从室内取出至少一个上述加工件的装置，以及用来控制该溅射源和气体进入装置、以便在气体进入装置向真空室中送入氩和含碳气时起动溅射源的装置。

17、按权利要求16的装置，所述溅射源是磁控管。

18、按权利要求16的装置，其中所述溅射源是一种金属或金属合金溅射源。

19、按权利要求16的装置，其中所述的一个贮罐或所述气体贮罐之一含有甲烷。

20、按权利要求19的装置，其中一个贮罐含有氩，另一个贮罐含有甲烷，该装置还包括一个可控混合装置，用来混合从所述两个贮罐送入真空室中的气体混合物，控制两个贮罐以便形成含有3%到10%甲烷（包括上下限）、优选约5%甲烷的气体混合物。

21、按权利要求16的装置，其中所述的一个气体贮罐含有氩和3%至20%（体积）（包括上下限）的甲烷，优选含3%到10%（体积）（包括上下限）的甲烷，优选含5%左右的甲烷。

22、按权利要求16的装置，还包括一个计时装置，用来控制送料和取料的装置，以便使将一个要处理的加工件送入真空室和自其中取出之间的时间间隔少于10秒。

23、按权利要求16的装置，所述溅射源是一个高反射率的金属溅射源，优选铝或铝合金溅射源。

24、按权利要求16的装置，其中有至少一个加工件，该加工件具有PMMA光学储存盘结构。