[发明专利]光记录载体在审

专利信息
申请号: 94107049.2 申请日: 1994-06-09
公开(公告)号: CN1097889A 公开(公告)日: 1995-01-25
发明(设计)人: C·M·J·范于延 申请(专利权)人: 菲利浦电子有限公司
主分类号: G11B7/24 分类号: G11B7/24
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 王岳,程天正
地址: 荷兰艾*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 记录 载体
【权利要求书】:

1、一种光记录载体,用以借助于辐射光束写和/或读取信息,该记录载体由透光的基底组成,该透光基底有一个辐射光束入射面和一个反面,该反面上设有记录层,其特征在于,入射面上配备有抗反射花纹结构。

2、如权利要求1所述的光记录载体,其特征在于,抗反射花纹结构符合下列关系式:

P2< (λ)/(1+NA)

其中P2是花纹结构在入射面平面中的特性尺寸,λ是辐射光束的波长,NA是辐射光束的数值孔径。

3、如权利要求1或2所述的光记录载体,其特征在于,抗反射花纹结构的深度大于记录层中迹线花纹结构的深度。

4、如权利要求1、2或3所述的光记录载体,其特征在于,记录层上配备有迹线花纹结构,且抗反射花纹的整体对称性与迹线花纹结构的一样。

5、如权利要求1、2、3或4所述的光记录载体,其特征在于,抗反射花纹结构包括栅格,入射面平面内的特性尺寸为栅格的间距。

6、如权利要求5所述的光记录载体,其特征在于,抗反射栅格的沟槽截面为三角形。

7、如1至6任一权利要求所述的光记录载体,其特征在于,记录层含有相变材料。

8、如1至7任一权利要求所述的光记录载体,其特征在于,基底与记录层之间顺次配置有反射层和干涉层。

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