[发明专利]制备照相胶片用片基薄膜的方法无效
申请号: | 94190058.4 | 申请日: | 1994-02-07 |
公开(公告)号: | CN1054924C | 公开(公告)日: | 2000-07-26 |
发明(设计)人: | 冈本弘;加藤光太郎;富田博史;铃木贤司;齐藤一义 | 申请(专利权)人: | 帝人株式会社 |
主分类号: | G03C1/795 | 分类号: | G03C1/795;G03C1/81 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 钟守期 |
地址: | 日本大阪*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 制备 照相 胶片 用片基 薄膜 方法 | ||
1.制备照相胶片用片基薄膜的方法,包括使聚2,6-萘二甲酸乙二醇酯的未拉伸薄膜双轴取向、热固定双轴取向的薄膜并对所得到的薄膜以卷曲状态进行退火处理,退火处理的温度在高于薄膜处于卷曲状态下受热的温度和150℃以下温度之间,以使薄膜在0.05Hz的依赖于拉伸粘弹性的80℃的tanδ值降低至0.09以下,以形成照相胶片用片基薄膜,其特征在于:
(a)厚度方向的折射率nz至少是1.498;
(b)雾霾值在2.0%以下;
(c)有一个方向上在0.05Hz的依赖于拉伸粘弹性的80℃的tanδ值是0.09以下;
(d)在70℃的抗卷曲率是45%以上;
(e)厚度在40-120μm范围内;和
(f)以聚2,6-萘二甲酸乙二醇酯为实质性原料而构成。
2.根据权利要求1的方法,其特征在于,片基薄膜厚度方向的折射率nz在1.510以下。
3.根据权利要求1的方法,其特征在于,片基薄膜雾霾值在1.5%以下。
4.根据权利要求1的方法,其特征在于,片基薄膜在0.05Hz的依赖于拉伸粘弹性的80℃的tanδ值不到0.085。
5.根据权利要求1的方法,其特征在于,片基薄膜在0.05Hz的依赖于拉伸粘弹性的80℃的tanδ值0.08以下。
6.根据权利要求1的方法,其特征在于,片基薄膜在70℃的抗卷曲率在50%以上。
7.根据权利要求1的方法,其特征在于,在外径3英寸的卷芯上、在49℃和50%RH条件下卷芯固定24小时的热处理薄膜的净ANSI卷曲值在10以下。
8.根据权利要求1的方法,其特征在于,所述的聚2,6-萘二甲酸乙二醇酯至少含有97摩尔%2,6-萘二甲酸乙二醇酯单元。
9.根据权利要求1的方法,其特征在于,片基薄膜之间的粘着度是3级以下。
10.根据权利要求1的方法,其特征在于,片基薄膜平整度是250cm/m宽以下。
11.根据权利要求1的方法,其特征在于,片基薄膜在120-160℃温度范围内具有吸热峰且其吸热能量在0.3mJ/mg以上。
12.根据权利要求1的方法,其特征在于,片基薄膜有一个方向在150℃、30分钟干热处理后的热收缩率在3%以下。
13.根据权利要求1的方法,其特征在于,片基薄膜有一个方向厚度不均匀性在5μm以下。
14.根据权利要求1的方法,其特征在于,片基薄膜有二个相互垂直的方向杨氏模量是750kg/mm2以下。
15.根据权利要求1的方法,其特征在于,片基薄膜含有0.001-0.2重量%平均粒径为0.05-1.5μm的惰性微粒。
16.根据权利要求1的方法,其特征在于,薄膜卷中薄膜层间存在有7-20体积%的空气层的空间。
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