[发明专利]使涡轮机密封泄露最小化的方法和装置无效
申请号: | 97194339.7 | 申请日: | 1997-05-02 |
公开(公告)号: | CN1075157C | 公开(公告)日: | 2001-11-21 |
发明(设计)人: | 威廉·P·桑德斯;安东尼·F·米托拉 | 申请(专利权)人: | 创新技术有限责任公司 |
主分类号: | F01D11/02 | 分类号: | F01D11/02 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人: | 邵伟 |
地址: | 美国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 涡轮机 密封 泄露 最小化 方法 装置 | ||
1.一种密封涡轮机泄露通道的装置,包括:
带有基础部分(52)和齿状部分(54)的密封圈(50),利用固定密封圈的装置(51)将密封圈与涡轮机旋转部分(46)做同轴安装;其特征在于:
利用工作流体在靠近密封圈高压侧的泄露通道(L)部分相对于密封圈(50)的旋转运动,在靠近密封圈高压侧的泄露通道部分的工作流体中产生低压(PL)区(58)的装置。
2.如权利要求1所述的装置,其特征在于,产生低压区的装置包括一个或多个产生和散发涡流的装置。
3.如权利要求2所述的装置,其特征在于,产生和散发涡流的装置与密封圈是一体的。
4.如权利要求3所述的装置,其特征在于,产生和散发涡流的装置包括密封圈(50)的齿状部分(22,54),齿状部分包括一个或多个齿状段(24),至少一个或多个齿状段中的一个或多个的后缘(26,56)的一部分(28)自密封朝密封的高压侧方向向外延伸。
5.如权利要求4所述的装置,其特征在于,齿状部分上的一个或多个间断形成了一个或多个齿状段。
6.如权利要求1所述的装置,其特征在于,安装密封圈的装置(62)固定在旋转部分(60)上。
7.一种用于密封涡轮机泄露通道的装置中的密封圈段,该密封圈段包括:
基础部分(20);和
由基础部分(20)沿径向延伸的齿状部分(22),齿状部分(22)包括一个或多个齿状段(24),至少一个或多个齿状段(24)中的一个或多个的后缘(26)的一部分(28)由密封圈段向外延伸,所有向外延伸的后缘部分应该向同一方向延伸。
8.如权利要求7所述的密封圈段,其特征在于,齿状部分(22)上的一个或多个间断(27)形成了一个或多个齿状段(24)。
9.如权利要求8所述的密封圈段,其特征在于,所述的同一方向是朝向密封圈的高压侧。
10.如权利要求7所述的密封圈段,其特征在于,所述的后缘(26)的部分(28)为远离基础部分(20)的部分。
11.一种限制工作流体通过密封圈(50)和涡轮机旋转部分(46)之间的泄露通道(L)泄露的方法,其特征为:
利用工作流体在靠近密封圈(50)高压侧(P1)的部分泄露通道中相对于密封圈的旋转运动,在靠近密封圈高压侧的部分泄露通道中的工作流体中产生低压区(58)。
12.如权利要求11所述的方法,其特征在于,产生低压区的步骤包括生成和散发涡流。
13.如权利要求11所述的方法,其特征在于,密封圈(50)包括密封圈段,密封圈段包括由基础部分(20)径向向外延伸的齿状部分(22),齿状部分(22)包括一个或多个齿状段(24),至少一个或多个齿状段(24)中的一个或多个的后缘(26)的一部分(28)自密封圈段向外延伸,所有向外延伸的部分向同一方向延伸,生成和散发涡流的步骤是由一个或多个齿状段(24)的后缘(26)的一个或多个向外延伸部分(28)实现的。
14.如权利要求13所述的方法,其特征在于,齿状部分(22)上的一个或多个间断(27)形成了一个或多个齿状段(24)。
15.一种制造改进型密封圈段的方法,包括:
制备带有基础部分(20)和由基础部分(20)径向延伸的齿状部分(22)的密封圈段;
在齿状部分(22)上做出一个或多个齿状段(24);其特征在于:
将一个或多个齿状段(24)中的一个或多个的后缘(26)弯曲,至少使后缘(26)的一部分(28)由密封圈段向外延伸,每个向外延伸的后缘(26)部分向同一方向延伸。
16.如权利要求15所述的方法,其特征在于,在齿状部分(22)上做出的一个或多个间断(27)形成了一个或多个齿状段(24)。
17.如权利要求16所述的方法,其特征在于,利用剪切力将齿状部分(22)剪开形成间断(27)。
18.如权利要求15所述的方法,其特征在于,还包括确定后缘弯曲的齿状段(24)数量的步骤,以使在相关的旋转部分中产生的共振最小。
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