[发明专利]使涡轮机密封泄露最小化的方法和装置无效

专利信息
申请号: 97194339.7 申请日: 1997-05-02
公开(公告)号: CN1075157C 公开(公告)日: 2001-11-21
发明(设计)人: 威廉·P·桑德斯;安东尼·F·米托拉 申请(专利权)人: 创新技术有限责任公司
主分类号: F01D11/02 分类号: F01D11/02
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 代理人: 邵伟
地址: 美国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 涡轮机 密封 泄露 最小化 方法 装置
【权利要求书】:

1.一种密封涡轮机泄露通道的装置,包括:

带有基础部分(52)和齿状部分(54)的密封圈(50),利用固定密封圈的装置(51)将密封圈与涡轮机旋转部分(46)做同轴安装;其特征在于:

利用工作流体在靠近密封圈高压侧的泄露通道(L)部分相对于密封圈(50)的旋转运动,在靠近密封圈高压侧的泄露通道部分的工作流体中产生低压(PL)区(58)的装置。

2.如权利要求1所述的装置,其特征在于,产生低压区的装置包括一个或多个产生和散发涡流的装置。

3.如权利要求2所述的装置,其特征在于,产生和散发涡流的装置与密封圈是一体的。

4.如权利要求3所述的装置,其特征在于,产生和散发涡流的装置包括密封圈(50)的齿状部分(22,54),齿状部分包括一个或多个齿状段(24),至少一个或多个齿状段中的一个或多个的后缘(26,56)的一部分(28)自密封朝密封的高压侧方向向外延伸。

5.如权利要求4所述的装置,其特征在于,齿状部分上的一个或多个间断形成了一个或多个齿状段。

6.如权利要求1所述的装置,其特征在于,安装密封圈的装置(62)固定在旋转部分(60)上。

7.一种用于密封涡轮机泄露通道的装置中的密封圈段,该密封圈段包括:

基础部分(20);和

由基础部分(20)沿径向延伸的齿状部分(22),齿状部分(22)包括一个或多个齿状段(24),至少一个或多个齿状段(24)中的一个或多个的后缘(26)的一部分(28)由密封圈段向外延伸,所有向外延伸的后缘部分应该向同一方向延伸。

8.如权利要求7所述的密封圈段,其特征在于,齿状部分(22)上的一个或多个间断(27)形成了一个或多个齿状段(24)。

9.如权利要求8所述的密封圈段,其特征在于,所述的同一方向是朝向密封圈的高压侧。

10.如权利要求7所述的密封圈段,其特征在于,所述的后缘(26)的部分(28)为远离基础部分(20)的部分。

11.一种限制工作流体通过密封圈(50)和涡轮机旋转部分(46)之间的泄露通道(L)泄露的方法,其特征为:

利用工作流体在靠近密封圈(50)高压侧(P1)的部分泄露通道中相对于密封圈的旋转运动,在靠近密封圈高压侧的部分泄露通道中的工作流体中产生低压区(58)。

12.如权利要求11所述的方法,其特征在于,产生低压区的步骤包括生成和散发涡流。

13.如权利要求11所述的方法,其特征在于,密封圈(50)包括密封圈段,密封圈段包括由基础部分(20)径向向外延伸的齿状部分(22),齿状部分(22)包括一个或多个齿状段(24),至少一个或多个齿状段(24)中的一个或多个的后缘(26)的一部分(28)自密封圈段向外延伸,所有向外延伸的部分向同一方向延伸,生成和散发涡流的步骤是由一个或多个齿状段(24)的后缘(26)的一个或多个向外延伸部分(28)实现的。

14.如权利要求13所述的方法,其特征在于,齿状部分(22)上的一个或多个间断(27)形成了一个或多个齿状段(24)。

15.一种制造改进型密封圈段的方法,包括:

制备带有基础部分(20)和由基础部分(20)径向延伸的齿状部分(22)的密封圈段;

在齿状部分(22)上做出一个或多个齿状段(24);其特征在于:

将一个或多个齿状段(24)中的一个或多个的后缘(26)弯曲,至少使后缘(26)的一部分(28)由密封圈段向外延伸,每个向外延伸的后缘(26)部分向同一方向延伸。

16.如权利要求15所述的方法,其特征在于,在齿状部分(22)上做出的一个或多个间断(27)形成了一个或多个齿状段(24)。

17.如权利要求16所述的方法,其特征在于,利用剪切力将齿状部分(22)剪开形成间断(27)。

18.如权利要求15所述的方法,其特征在于,还包括确定后缘弯曲的齿状段(24)数量的步骤,以使在相关的旋转部分中产生的共振最小。

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