[发明专利]电子照相感光体及其成像方法无效
申请号: | 98111729.5 | 申请日: | 1998-12-25 |
公开(公告)号: | CN1221133A | 公开(公告)日: | 1999-06-30 |
发明(设计)人: | 岩崎宏昭;渡边征正;斋藤荣;松本俊一;内田真纪 | 申请(专利权)人: | 三田工业株式会社 |
主分类号: | G03G5/06 | 分类号: | G03G5/06 |
代理公司: | 中科专利代理有限责任公司 | 代理人: | 黄永奎 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 电子 照相 感光 及其 成像 方法 | ||
本发明涉及静电复印机、普通纸传真装置及激光打印机等利用所谓电子照相法的成像装置所使用的电子照相感光体以及利用该感光体的成像方法。
近来,作为上述的电子照相感光体正在广泛的应用具有在由粘接树脂形成的单层中使由光照射发生电荷(空穴与电子)的电荷产生剂与输送已产生的电荷的电荷传输剂分散的所谓单层感光层,或由含有电荷传输剂的电荷传输层与含有电荷产生剂的电荷产生层积层的积层感光层等所谓的有机感光体(OPC)。
这样的有机感光体与使用无机半导体材料的真空镀膜等的无机感光体相比,容易制造,同时,具有电荷产生剂,电荷传输剂和粘接树脂等选择是多种多样的,和功能设计的自由度高的优点。
上述当中,作为电荷传输剂有空穴输送能优良的空穴传输剂和电子输送能优良的电子传输剂。其中,作为空穴传输剂,有咔唑化合物、噁二唑化合物、吡唑啉化合物、苯二胺化合物、联苯胺化合物等种种有机化合物。
尤其,在上述中,通式(2):(式中R2A、R2B、R2C及R2D表示相同或不同的氢原子、烷基、烷氧基、芳基等)所示出的间苯胺化合物由于具有下列优良特性而一般被广泛应用。
即是说,上述间苯二胺化合物(2)由于表示空穴传输能力的漂移率大,所以空穴传输能力优良,同时,这样的漂移率对电场强度的依赖性小,所以具有特别在低电场容易跳出剩余电位的优点。还有,与构成电荷传输层的粘接树脂的相溶性优良,同时对紫外光还有一定程度的耐光性。
然而,若用上述间苯二胺化合物(2)的感光体,例如在成像装置维修时等,在打开该装置机体的状态下,长时间地受到室内照明用的萤光灯或由窗外射入的日光等强光晒,或者在装置运转中发生卡纸等故障而打开机体,或者在运转时达到高温状态,那怕时间很短,若受到上述强光晒,则即存在使机体遭受不可挽回的损坏的问题。
可认为,其原因在于由于上述的强光的曝晒,间苯二胺化合物(2)发生光老化反应,具体地说,在分子中心的苯环与苯基之间发生闭环反应,变成对空穴的传输造成陷井的杂质。
即是说,间苯二胺化合物(2)的电子密度偏于分子中的苯环,从立体配置来看,也可推测特别是其5位的碳,在受光激发时成了容易受氧等的氧化物质的攻击的分子结构,因此由于电子从这一部分脱出,即引起上述的闭环反应。
还有,上述的间苯二胺化合物(2)由于溶点低,所以利用它所得到的感光层玻璃化温度低,耐久性和耐热性不充分。特别是在运转时处于高温状态下,装置停止而直接将其长时间放置时,在感光层的表面上冷压等压痕成为筋形凹部而出现,造成了图像不良的原因。
在这方面,为了解决这些问题,特公平8-9579号公报提出如下列通式(3)所示,在中心苯环的5位上取代烷基等基,提高了耐强光暴晒的性能的间苯二胺化合物以及利用该化合物的电子照相感光体。(式中R3A、R3B、R3C及R3D表示相同或不同的烷基、烷氧基、卤素原子、氨基、N-取代氨基,A、B、C及D表示相同或不同的0-5的整数,R3E表示烷基、烷氧基、氨基、烯丙基、芳基)。
这样的间苯二胺化合物(3)具有上述已有的间苯二胺化合物(2)本来就具有的优良的特性,而且还具有如上所述的耐强光曝晒的很高耐性,因此,可期待有机电子照相感光体的性能与迄今相比可更进一步地提高。
还有,特别是作为R3E取代了苯基等的芳基的化合物由于溶点高,因此可期待:使感光层的玻璃化温度上升,可提高耐久性和耐热性。
但是,近年来,为了满足日益高涨的某种成像装置进一步高速化及节能化的要求,使用以上述间苯二胺化合物(3)等为代表的已有空穴传输剂的电子照相感光体,其感光度正变得不充分,这就是现状。因此,希望开发可形成更高感光度电子照相感光体的新型空穴传输剂。
本发明的主要目的在于,提供一种充分满足更高感光度成像装置更进一步高速化及节能化要求,而且具有耐强光的稳定性、耐久性及耐热性优良的感光层的新型电子照相感光体。
本发明的另一目的在于,提供一种使用这种电子照相感光体并可更高速化及节能化的成像方法。
为了解决上述问题,本发明人等以上述的间苯二胺化合(3)为基础,研究了改进其分子结构,特别是取代基的种类与位置。
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