[发明专利]光致抗蚀剂涂层的制备无效
申请号: | 99815588.8 | 申请日: | 1999-12-11 |
公开(公告)号: | CN1333996A | 公开(公告)日: | 2002-01-30 |
发明(设计)人: | F·塞蒂尔布迪 | 申请(专利权)人: | 范蒂科股份公司 |
主分类号: | H05K3/00 | 分类号: | H05K3/00;G03F7/16;G03F7/38;G06F7/40 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 温宏艳,周慧敏 |
地址: | 瑞士*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光致抗蚀剂 涂层 制备 | ||
1、制备抗蚀剂涂层的方法,其中
(a)用含有至少一种在加热涂层时吸收近红外区辐射的成分的抗蚀剂组合物涂敷基质,和
(b)抗蚀剂组合物或由此产生的、在该方法中得到的一种组合物在所述方法的过程中至少经受了一次近红外区域的辐射热处理。
2、按权利要求1的方法,其中的组合物包含一种溶剂并且该溶剂是通过用近红外线辐射热处理组合物形成抗蚀剂涂层时除去。
3、按权利要求2的方法,其中溶剂的除去是同时在用流动气体处理涂层表面时完成的。
4、按权利要求3的方法,其中的流动气体是空气。
5、按权利要求1~4的任一种方法,其中的组合物包含一种惰性有机溶剂、水或二者的或者多于上述两种组份的混合物。
6、按权利要求1~5的任一种方法,其中的组合物包含一种光敏组成体系。
7、按权利要求1~5的任一种方法,其中的组合物包含一种可光致硬化的组成体系以及一种仅可热致硬化的体系。
8、按权利要求6或7的方法,其中用组合物涂层的基质在用UV/VIS-辐射除去组合物中包含的溶剂后被按图形曝光并且,若需要,在加热后用显影剂按该图形结构化。
9、按权利要求8的方法,其中在按图形曝光和显影之间的加热用近红外辐射进行。
10、按权利要求8或9的方法,其中在抗蚀剂涂层的按图形结构化后将抗蚀剂组合物的仅可热致硬化的组成体系硬化。
11、按权利要求10的方法,其中抗蚀剂组合物的仅可热致硬化的组成体系用近红外辐射硬化。
12、按权利要求1~7的任一种方法,其中用抗蚀剂组合物涂层的基质在除去组合物中包含的溶剂后用近红外辐射按图形硬化,然后用显影剂按该图形对涂层进行结构化。
13、按权利要求12的方法,其中的抗蚀剂组合物不含可光致硬化的组成体系。
14、按权利要求1~13的任一种方法,其中的抗蚀剂组合物至少包含一种具有(甲基)丙烯酸基或环氧基的可交联的化合物。
15、按权利要求1~14的任一种方法,其中的组合物包含一种基于环氧化物的可热致硬化的组成体系。
16、按权利要求1~15的任一种方法在制备抗蚀剂底涂层、钎焊终止抗蚀剂涂层或在按序组装多层印刷线路板中的应用。
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