[发明专利]半导体参数分析系统有效
申请号: | 00100121.3 | 申请日: | 2000-01-12 |
公开(公告)号: | CN1114227C | 公开(公告)日: | 2003-07-09 |
发明(设计)人: | 许铭真;谭长华;何燕东;卫建林;解冰;刘晓卫 | 申请(专利权)人: | 北京大学 |
主分类号: | H01L21/66 | 分类号: | H01L21/66;G01R31/26 |
代理公司: | 北京华一君联专利事务所 | 代理人: | 余长江 |
地址: | 100871 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明涉及一种半导体器件参数分析系统。包括半导体参数测试仪器,计算机,测试台,计算机与测试仪器接口卡,半导体参数分析软件系统。半导体参数测试仪器测量完整的半导体器件I-V输出特性;半导体参数分析软件系统对测得的I-V特性进行比例差值处理,得到相应的比例差值I-V输出谱特性,并用峰位和峰高度来直接确定半导体器件参数。与传统的拟合法或外推法相比,提高了精度,缩短了分析程序,明显地提高了工效。可应用于各尺度半导体器件参数信息处理领域。 | ||
搜索关键词: | 半导体 参数 分析 系统 | ||
【主权项】:
1、一种半导体参数分析系统,包括半导体参数测试仪器,计算机,测试台,计算机与测试仪器接口卡,半导体参数分析软件系统,其特征在于半导体参数测试仪器测量完整的半导体器件I-V输出特性;半导体参数分析软件系统对测得的I-V特性进行比例差值处理,得出比例差值I-V函数特性和半导体参数。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造