[发明专利]用于改善临界尺寸控制的抗反射涂层无效
| 申请号： | 00104809.0 | 申请日： | 2000-03-27 |
| 公开（公告）号： | CN1269532A | 公开（公告）日： | 2000-10-11 |
| 发明（设计）人： | D·特本;G·Y·李;Z·卢 | 申请（专利权）人： | 因芬尼昂技术北美公司 |
| 主分类号： | G03F7/09 | 分类号： | G03F7/09 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 梁永,王忠忠 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 这里介绍了一种减小抗蚀剂反射率的ARC。该ARC包括第一和第二部分。第一部分以吸收模式起作用,第二部分能够减小抗蚀剂和第一ARC部分间折射率的差,因而改善了CD控制。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 改善 临界 尺寸 控制 反射 涂层 | ||
【主权项】：
1.一种减小平版印刷中抗蚀剂反射率的方法，包括：在衬底上淀积抗反射涂层(ARC)；及在ARC上淀积抗蚀层，其中ARC包括第一和第二部分，第一部分以吸收模式起作用，第二部分具有能够减小第一部分和抗蚀剂间折射率差的折射率。
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