[发明专利]生产硅单晶的直拉区熔法有效

专利信息
申请号: 00105518.6 申请日: 2000-03-30
公开(公告)号: CN1095505C 公开(公告)日: 2002-12-04
发明(设计)人: 沈浩平;李翔;汪雨田;昝兴利 申请(专利权)人: 天津市环欧半导体材料技术有限公司
主分类号: C30B15/00 分类号: C30B15/00;C30B13/00
代理公司: 天津市才智有限责任专利代理事务所 代理人: 杜文茹
地址: 300161 *** 国省代码: 天津;12
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种生产硅单晶的直拉区熔法,是由直拉炉和区熔炉完成的,步骤如下(1)将料装入直拉炉抽真空充氩气,(2)加热化料熔接籽晶,(3)拉细颈,(4)放肩收肩,(5)等径生长,(6)收尾,(7)降温出炉,(8)对多晶棒定形加工清洗腐蚀,(9)装入区熔炉抽真空充氩气,(10)预热化料熔接籽晶,(11)引晶拉细颈,(12)放肩等径生长,(13)拉断尾部,(14)降温停炉晶体出炉。本发明克服了直拉硅中的高氧含量,生产的硅单晶氧含量为1016atm/cm3,热稳定性好,又克服了区熔法不能掺入特殊固态元素的不足,可掺入特殊固态元素,提高了区熔炉的产能,降低了生产成本缩短了生产周期。
搜索关键词: 生产 硅单晶 直拉区熔法
【主权项】:
1、一种生产硅单晶的直拉区熔法,是先后采用直拉炉和区熔炉来完成的,包括如下步骤:(1)将腐蚀清洗干净的块状硅多晶料装入直拉炉中的石英坩埚内,然后抽真空、充氩气;(2)加热前通冷却水,开动坩埚旋转机构,启动加热按钮,将块状硅多晶全部熔化后,开动籽晶旋转机构,下降籽晶熔接籽晶;(3)将籽晶行程调至零位,旋转晶升电位器,拉细颈;(4)下降籽晶升速,开启晶升转换按钮,扩大拉晶直径,用直径控制器控制拉速进行放肩;(5)调节直径传感器,控制拉晶速度进行等径拉晶;(6)降低晶体拉速进行收尾;(7)提高晶体离开液面、停止加热,将埚转,晶升、晶转电位器全部旋至零位,切断电源,半小时后停止氩气,四小时后停水,关闭线阀开关,停止主真空泵抽空,将多晶棒出炉;(8)将出炉后的多晶棒进行锭形加工,清洗腐蚀后装入区熔炉内晶体夹持器上,将籽晶装入籽晶固定夹头上,预热片放在籽晶上面,关闭炉门抽真空充氩气;(9)加热前通冷却水,预热、化料,将晶棒熔区与籽晶熔接;(10)调整熔区,引晶生长细颈;(11)降低下部晶体的输送速度,进行放肩,并使用上速控制放肩角度,放肩到要求直径后,开始等径生长;(12)逐步降低上部夹速,拉断晶体尾部;(13)慢速降温,直到晶体黑暗时停止加热,十分钟后切断电源,停止氩气,二十分钟后断水;(14)打开下部炉室,取出晶体。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于天津市环欧半导体材料技术有限公司,未经天津市环欧半导体材料技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/00105518.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top