[发明专利]微透镜、其和垂直空腔表面辐射激光器的组合及其制造方法无效
| 申请号： | 00106506.8 | 申请日： | 2000-02-19 |
| 公开（公告）号： | CN1266204A | 公开（公告）日： | 2000-09-13 |
| 发明（设计）人： | 李定观;田宪秀;申铉国 | 申请（专利权）人： | 三星电子株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/26 | 分类号： | G03F7/26;G02B3/06 |
| 代理公司： | 柳沈知识产权律师事务所 | 代理人： | 李晓舒 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种微透镜,通过利用具有用来限定半导体元件上的成为微透镜的凸形表面的开口的蚀刻掩模,在化学蚀刻溶液中蚀刻半导体元件形成,所述溶液含有能对半导体进行限制扩散蚀刻的蚀刻剂;和一种微透镜和垂直空腔表面辐射激光器(VCSEL)的组合,其中微透镜形成在由限制扩散蚀刻的激光辐射表面的窗口区域上。 | ||
| 搜索关键词： | 透镜 垂直 空腔 表面 辐射 激光器 组合 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种微透镜，包括：一透镜体元件；和具有曲率的微透镜表面，利用有将要成为微透镜的透镜体的一部分露出来的开口的蚀刻掩模，通过限制扩散蚀刻法将透镜体元件蚀刻成凸形表面来形成。
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