[发明专利]测量象差引起的位置移动和/或畸变的方法装置

摘要

在畸变测量方法中,形成至少具有包含多个大图案的阵列的第一衍射光栅图案和与之隔开预定间隔的包含多个显微图案的阵列的第二衍射光栅图案的掩模。多个显微图案沿着垂直于第二衍射光栅图案的阵列方向的方向、按照预定的间距排列。通过透镜至少把形成在掩模上的第一和第二衍射光栅图案投影在光敏基片上。利用相干光线扫描光敏基片并测量至少第一和第二衍射光栅图案之间的间隔,从而测量包含由透镜的象差引起的象点的位置移动分量的畸变。

主权项

1.一种畸变测量方法，其特征在于包括以下步骤：形成掩模，该掩模至少具有包含多个大图案的阵列的第一衍射光栅图案(1)和包含多个显微图案的阵列的第二衍射光栅图案(2)，所述第二衍射光栅图案与所述第一衍射光栅图案隔开预定的间隔，所述多个显微图案沿着垂直于所述第二衍射光栅图案的阵列方向的方向、按照预定的间距排列；通过透镜至少把形成在所述掩模上的所述第一和第二衍射光栅图案投影在光敏基片上；以及利用具有可衍射波长的相干光线扫描所述光敏基片，并且测量至少所述第一和第二衍射光栅图案之间的间隔，从而测量包含由透镜的象差引起的象点的位置移动分量的畸变。