[发明专利]铁电电容器、铁电/CMOS集成结构及其制造方法无效

专利信息
申请号: 00108782.7 申请日: 2000-06-02
公开(公告)号: CN1148805C 公开(公告)日: 2004-05-05
发明(设计)人: 查尔斯·托马斯·布莱克;西里尔·卡布拉·JR.;阿尔弗雷德·格利尔;德博拉·安·纽梅尔;威尔伯·大卫·普莱瑟;卡舍莱恩·莱恩·萨恩格尔;托马斯·姆卡罗尔·邵 申请(专利权)人: 国际商业机器公司
主分类号: H01L27/04 分类号: H01L27/04;H01L21/82
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 王以平
地址: 美国*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 提供一种铁电电容器、铁电/CMOS集成结构及其制造方法。该铁电电容器包括:铁电层;与铁电层的两个相反面接触的导电电极层和导电反电极层,这些电极层在沉积或退火时不分解;以及至少与导电反电极层接触的氧源层,该氧源层是在沉积和/或随后处理中至少部分分解的金属氧化物。
搜索关键词: 电容器 cmos 集成 结构 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种铁电电容器,包括:导电电极层、位于所述导电电极层上的铁电层、在所述铁电层上形成的导电反电极层,以及与上述导电反电极层邻近的至少部分分解的氧源层。
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