[发明专利]低温热化学汽相淀积设备及利用该设备合成碳纳米管的方法无效

专利信息
申请号: 00109269.3 申请日: 2000-06-15
公开(公告)号: CN1278021A 公开(公告)日: 2000-12-27
发明(设计)人: 李铁真;柳在银 申请(专利权)人: 李铁真;株式会社日进纳米技术
主分类号: C23C16/32 分类号: C23C16/32;C01B31/02
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 代理人: 甘玲
地址: 韩国全*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 一种低温热CVD设备和利用设备合成碳纳米管的方法,是将该设备中的反应管分成在空间上邻接气体输入部分、用于热分解输入气体的第一区,和空间上邻接排气部分、用于利用前述的分解气体合成碳纳米管第二区,并且,保持两区的温度,使第二区的温度低于第一区的温度。将具有第一金属催化膜的第一基片用腐蚀气腐蚀,形成纳米级催化颗粒,利用上述设备热分解碳源气,在其温度低于第一区的第二区中,从催化颗粒上合成碳纳米管。
搜索关键词: 低温 热化学 汽相淀积 设备 利用 合成 纳米 方法
【主权项】:
1.一种热化学汽相淀积(CVD)设备,包括:具有气体输入部分和排气部分的反应管,该反应管被分成第一区和第二区,第一区在空间上邻接气体输入部分,用于热分解经气体输入部分进入的气体,第二区空间上邻接排气部分,用于利用在第一区中分解的气体合成碳纳米管;围绕反应管安装的第一电阻加热器,用于保持第一区的温度为第一温度;围绕反应管安装的第二电阻加热器,用于保持第二区的温度为低于第一温度的第二温度;设于第一和第二电阻加热器间用于隔开它们的隔离件。
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