[发明专利]脱除青霉素G亚砜粗产品中水分及杂质的方法无效
申请号: | 00109866.7 | 申请日: | 2000-07-10 |
公开(公告)号: | CN1111163C | 公开(公告)日: | 2003-06-11 |
发明(设计)人: | 潘学军;刘会洲;安震涛;王靖;牛国光 | 申请(专利权)人: | 中国科学院化工冶金研究所 |
主分类号: | C07D499/78 | 分类号: | C07D499/78 |
代理公司: | 上海智信专利代理有限公司 | 代理人: | 李柏 |
地址: | 100080 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明涉及脱除青霉素G亚砜粗产品中水分及杂质的方法,采用微波加热脱除青霉素G亚砜粗产品中的水分及溶剂转晶脱除剩余水分及杂质。采用间歇微波加热,向微波炉内通入气体,同时抽气,使青霉素G亚砜粗产品温度保持在60℃以下,得到脱除部分水分的白色粉末状青霉素G亚砜;加入有机溶剂,按液固比1∶1~3∶1,搅拌,洗涤转晶,得到青霉素G亚砜。本发明脱水速度快、效率高,青霉素G亚砜无损失,工艺流程短。 | ||
搜索关键词: | 脱除 青霉素 亚砜 产品 水分 杂质 方法 | ||
【主权项】:
1.一利脱除青霉素G亚砜粗产品中水分及杂质的方法,其特征在于:该方法是采用微波加热脱除青霉素G亚砜粗产品中的水分,并溶剂转晶脱除剩余水分及杂质。
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C07D499-04 .制备
C07D499-21 .有氮原子直接连在位置6和3个键连杂原子至多1个键连卤素的碳原子,例如酯基或氰基,直接连在位置2
C07D499-86 .只有1个除氮原子外的原子直接连在位置6,3个键连杂原子至多1个键连卤素的碳原子,例如酯基或氰基,直接连在位置2
C07D499-87 .在位置3未取代或在位置3连有除仅两个甲基外的取代基,并有3个键连杂原子至多1个键连卤素的碳原子,例如酯基或氰基,直接连在位置2的化合物
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